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HMDS烘箱

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  • 公司名稱上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2017/3/8 15:47:05
  • 訪問次數(shù)1646
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上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司(以下簡(jiǎn)稱“雋思儀器”)是一家專業(yè)從事儀器設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售及服務(wù)的企業(yè)。主要生產(chǎn)半導(dǎo)體工藝設(shè)備、環(huán)境模擬儀器設(shè)備、線纜試驗(yàn)機(jī)、橡塑試驗(yàn)檢測(cè)設(shè)備、黑蒜設(shè)備等的高新技術(shù)型企業(yè),具有很強(qiáng)的自主開發(fā)、設(shè)計(jì)能力,服務(wù)于電子、電力、通訊、環(huán)保、農(nóng)業(yè),建筑,節(jié)能等行業(yè);多年來,公司以“真摯的服務(wù)、優(yōu)質(zhì)的品質(zhì)”為宗旨,為國(guó)內(nèi)外廣大用戶提供了周到的售前、售中、售后服務(wù)。贏得了國(guó)內(nèi)外客戶的*好評(píng),更為我們業(yè)務(wù)的快速發(fā)展奠定了一定的基礎(chǔ)。我們的服務(wù)也更精益求精,更完善!
 雋思儀器主要業(yè)務(wù)有HMDS預(yù)處理系統(tǒng),HMDS烘箱,潔凈烤箱,百級(jí)潔凈烘箱,氮?dú)夂嫦?,高溫?zé)o氧烘箱,真空無氧烘箱,無塵無氧化烘箱,抗粘劑涂膠機(jī),精密恒溫加熱臺(tái),快速高低溫氣流儀,超低溫試驗(yàn)箱,高低溫試驗(yàn)箱,高低溫交變濕熱箱定做,HMDS真空涂膠烘箱,低溫脆性檢測(cè)儀,黑蒜發(fā)酵設(shè)備,導(dǎo)體直流電阻測(cè)試儀,電線電纜檢測(cè)儀器,真空烘箱,黑蒜試驗(yàn)機(jī),橡塑檢測(cè)試驗(yàn)機(jī)等。
    不斷追求技術(shù)進(jìn)步、提升專業(yè)服務(wù)能力,做一個(gè)專業(yè)的儀器設(shè)備供應(yīng)商是我們的發(fā)展目標(biāo)。企業(yè)內(nèi)部實(shí)施了CRM、ERP項(xiàng)目管理,在產(chǎn)品開發(fā)、質(zhì)量控制、集成供應(yīng)鏈、人力資源管理、財(cái)務(wù)管理等諸多方面取得了長(zhǎng)足發(fā)展。同時(shí)建立了標(biāo)準(zhǔn)化的服務(wù)流程,形成了覆蓋全國(guó)的快速服務(wù)網(wǎng)絡(luò),以盡心盡責(zé)的服務(wù)理念和完備的技術(shù)得到用戶的*稱贊。我們將珍視每一次與您合做的機(jī)會(huì),以飽滿的熱情、真誠(chéng)的服務(wù)與您共創(chuàng)燦爛的未來!





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HMDS烘箱預(yù)處理性能更好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將“去水烘烤“和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更好的處理效果。
HMDS烘箱 產(chǎn)品信息

一、HMDS烘箱技術(shù)參數(shù)

電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%

輸入功率:2000W

控溫范圍:RT+20℃-160℃

溫度分辨率:0.1℃

溫度波動(dòng)度:±0.5℃

達(dá)到真空度:-100kPa(1torr)

工作室尺寸(mm):450*450*450(可定做)

有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。

二、HMDS烘箱預(yù)處理系統(tǒng)特點(diǎn):

1、預(yù)處理性能更好,由于是在經(jīng)過數(shù)次的氮?dú)庵脫Q再進(jìn)行的HMDS處理,所以不會(huì)有塵埃的干擾,再者,由于該系統(tǒng)是將"去水烘烤"和HMDS處理放在同一道工藝,同一個(gè)容器中進(jìn)行,晶片在容器里先經(jīng)過100℃-160℃的去水烘烤,再接著進(jìn)行HMDS處理,不需要從容器里傳出,而接觸到大氣,晶片吸收水分子的機(jī)會(huì)大大降低,所以有著更好的處理效果。

2、處理更加均勻,由于它是以蒸汽的形式涂布到晶片表面上,所以有液態(tài)涂布不可比擬更好的均勻性。

3、效率高,液態(tài)涂布是單片操作,而本系統(tǒng)一次可以處理多達(dá)4盒的晶片。

4、更加節(jié)省藥液,實(shí)踐證明,用液態(tài)HMDS涂布單片所用的藥液比用本系統(tǒng)處理4盒晶片所用藥液還多;

5、 更加環(huán)保和安全,HMDS是有毒化學(xué)藥品,人吸入后會(huì)出現(xiàn)反胃、嘔吐、腹痛、呼吸道等,由于整個(gè)過程是在密閉的環(huán)境下完成的,所以不會(huì)有人接觸到藥液及其蒸汽,也就更加安全,它的尾氣是直接由機(jī)械泵抽到尾氣處理機(jī),所以也不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染。    

三、HMDS烘箱的原理:      

    HMDS預(yù)處理系統(tǒng)通過對(duì)烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS,降低了HMDS處理后的硅片接觸角,降低了光刻膠的用量,提高光刻膠與硅片的黏附性。

四、HMDS烘箱預(yù)處理系統(tǒng)的必要性:

    在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié),涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量,涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時(shí)顯影液會(huì)侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗,同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應(yīng)生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。

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