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質譜成像基質微噴霧系統

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱華儀行(北京)科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號MALDI
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質生產廠家
  • 更新時間2016/11/2 15:48:54
  • 訪問次數1051
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賽福中國(CIF CHINA)--公司簡介

       賽福中國(CIF CHINA)來源于美洲,服務于中國,總部位于美國加州洛杉磯,是一家集實驗室儀器設備研發、制造、銷售、服務為一體的專業化公司。

       賽福中國(CIF CHINA)自成立以來,始終堅持以科技的創新和發展為宗旨,發揚”誠信、務實、協作、共贏“的企業精神,以*的研發團隊,*的設計理念,生產*的產品,創*是我們的目標!同時公司一直努力尋求國內外合作,力求把較早的、*的儀器引進中國來,為中國實驗室服務,為人類健康服務。

       賽福中國(CIF CHINA)所做的一切是為了包括我們的股東、員工、客戶乃至商業伙伴在內的所有人營造和實現他們美好夢想的平臺和機會。

賽福中國(CIF CHINA)目產產品:

等離子清洗機、生物廢液吸取系統、電熱板、電消解儀、酸清洗器、酸純化器、消解罐

賽福中國(CIF CHINA)代理產品:

丹麥ARCTIKO公司:超低溫冰箱、便攜式超低溫冰箱

意大利SOLTEC公司:超聲波清洗機

韓國ODLAB公司:高溫酸消解回收系統

韓國MiraeST公司、德國EVOQUA 公司:純水、超純水

西班牙EQUILAB公司:全自動熔樣儀、壓片機、研磨儀、盤式研磨儀、電磁感應加熱器、金屬樣品加工系統

土耳其Bastak公司:降落值測定儀、面筋測定儀、洗滌儀、沉淀測試儀、研磨儀、谷物電子容重器、圓型檢驗平篩、電動谷物取樣器、汽車全自動采樣機

美國HST公司:快速微波蛋白酶分解儀、質譜成像基質微噴霧系統

韓國Vivagen公司:低氧細胞培養工作站

德國SCHUETT公司:全自動菌落計數分析系統,滾瓶培養箱、自動接種環滅菌器、厭氧培養罐等

葡萄牙ARALAB公司:植物生長箱、藥品穩定箱

德國GFL公司:空氣浴、水浴搖床

德國Zirbus公司:凍干機系列

韓國DAESHIN公司:真空鞋底清潔器

多功能電熱板,多功能圓形石墨板,智能消解系統,酸純化儀,酸清洗儀,廢液抽吸器,等離子清洗機
質譜成像基質微噴霧系統
MALDI質譜成像技術已成為生物標志物研究、醫學、藥物研究等方面的重要手段,自動化的基質噴涂技術可大大提高MALDI質譜成像的靈敏度和分辨率。
質譜成像基質微噴霧系統 產品信息

質譜成像基質微噴霧系統

         MALDI質譜成像技術已成為生物標志物研究、醫學、藥物研究等方面的重要手段,自動化的基質噴涂技術可大大提高MALDI質譜成像的靈敏度和分辨率。HST公司研發的μMatrix矩陣觀察微噴霧系統是質譜組織成像領域內一款新型的基質制備設備。通過電腦控制的壓電式模塊,只需要pl的上樣量,即可產生高重現性和均一性的Matrix制備。在組織多肽領域,該系統也可以制備均質的酶消化樣本。與市場上傳統的納升級噴霧系統不同,此微噴霧系統采用全新的精細霧點控制模塊,*在細微的組織表面高分辨率的精確均勻噴灑各種基質。也可將*直接噴灑在組織表面,進行表面蛋白質原位酶解,不但能看到目標蛋白質的分布,而且能通過質譜儀直接鑒定蛋白質。

 

 技術指標

應用精度:±50μm

噴霧分辨率:5760*1440 dpi

樣品槽:支持6個樣品瓶位

噴霧速度:大約30秒 (在 5×5 cm2區域上)

自動應用控制器:定量重復噴霧

板支架:384孔格式板,銦錫導電載玻片(ITO slide glass)

加熱板:溫度范圍20?50℃

壓電式噴霧單元:3 PL /zui少

■性能

 

   精確性和均一性

 

 

 μMatrix Spotter可以將世界地圖上的任何區域繪制成微斑點的矩陣陣列。

操作簡單

 

其軟件直觀的用戶界面可以精確控制基質的數量、斑點面積以及位置。

 

可重現性

 

    通過使用pL-級壓電式噴霧單元模塊,為矩陣觀察提供各種基質溶液的高還原性斑點,如HCCA (L) 和 DHB (R)。

 

μMatrix Spotter

μMatrix Spotter產品優勢

 

  • *溶液和優化的溶劑混合液噴涂在組織切片上,可用于MALDI質譜成像實驗。
  • μMatrix Spotter的操作軟件可以精確選擇基質打印區域,從而盡量減少基質溶液的使用
  • 通過壓電式噴霧單元在組織切片上方的垂直“PL”噴霧可實現打印區域基質的*性。
  • MALDI MS成像的組織提取物可實現少量重復打印控制。重復數量和干燥時間可根據個個實驗的目的進行優化控制。
  • 可同時打印4個氧化銦錫載玻片

專業的質譜載樣臺

·疏水性和親水性結構設計

·基質噴霧細而均勻

·基質用量少

·一次性使用

 

μ陣列質譜載樣臺

·均勻密點陣列→HTS專有

·μ焦點技術→高靈敏性

·一次性使用

·高成像性

 

氧化銦錫涂層質譜載玻片

 

·經濟性,高成像性

·穩定的氧化銦錫涂層

·25 x 75 mm, I型或II型

·厚度0.7 mm 和 1.1 mm

質譜成像基質微噴霧系統、

 

關鍵詞:質譜儀
15168338725
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