** 特點:
1、采用高純陶瓷復合加熱器,適用于高真空環境,在高溫環境下不釋放氣體,耐酸堿鹽及有機溶液的腐蝕;
2、面加熱,溫度分布均勻,可以充分接觸加熱;升溫速度迅速,4-5s可升到1000℃,高真空或惰性氣氛下可加熱到1500℃,
有氧環境建議低于600℃短期使用;
3、適用于快速煺火爐、濺射鍍膜設備、電鏡樣品加熱、MBE設備、金屬蒸發、TDS熱脫附等設備;
4、有目前zui大3英寸的圓形和zui大93.4mm*75mm的矩形加熱器供選擇。
公司名稱(現用名):北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區域:北京、天津、河北
北京維意真空技術應用有限責任公司,原名北京科立方真空技術應用有限公司,創立于2013年,位于中國·首都北京密云經濟技術開發區,主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分,是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養于一體的專業性的公司,公司擁有一支專業、優秀的產品技術工程師和維修技術工程師,具有豐富的行業經驗,同時還與北京工業大學聯合研發等離子體增強化學氣相沉積系統,與北京交通大學聯合研發原子層沉積系統,滿足高校、研究所的教學、科研使用,同時減少相關進口設備的*,并力爭創造外匯,打出中國創造的!
我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!
您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標!
技術創新、業務專業、服務誠信是我們一直遵循的經營理念!
我們熱誠歡迎國內外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯系開展各層面的合作,打造成*的真空系統產品、等離子體增強化學氣相沉積系統和原子層沉積系統供應商。
** 特點:
1、采用高純陶瓷復合加熱器,適用于高真空環境,在高溫環境下不釋放氣體,耐酸堿鹽及有機溶液的腐蝕;
2、面加熱,溫度分布均勻,可以充分接觸加熱;升溫速度迅速,4-5s可升到1000℃,高真空或惰性氣氛下可加熱到1500℃,
有氧環境建議低于600℃短期使用;
3、適用于快速煺火爐、濺射鍍膜設備、電鏡樣品加熱、MBE設備、金屬蒸發、TDS熱脫附等設備;
4、有目前zui大3英寸的圓形和zui大93.4mm*75mm的矩形加熱器供選擇。
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