plasma真空等離子清洗機供應商:誠峰智造
真空式等離子處理系統CRF-VPO-MC-6L
名稱(Name)
真空式等離子處理系統
型號(Model)
CRF-VPO-MC-6L
控制系統(Control system)
PLC+觸摸屏
電源(Power supply)
380V/AC,50/60Hz,12.5kw
中頻電源功率(MF Power)
2000W/40kHz
容量(Volume)
235L(Option)
層數(Electrode of plies)
6(Option)
有效處理面積(Area)
500(L)*500(W)(Option)
氣體通道(Gas)
兩路工作氣體可選: Ar、N2、CF4、O2
產品特點:處理空間大,提升處理產能,采用PLC+觸摸屏控制系統,有效控制設備運行。
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數,滿足客戶的需求。
保養維修成本低,便于客戶成本控制。
高精度,快響應,良好的操控性和兼容性,完善的功能和專業的支持。
應用范圍:主要適用于生物醫療行業,印制線路板行業,半導體IC領域,硅膠、塑膠、聚合體領域,汽車電子行業,工業等。