公司介紹：
德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學(xué)院（KIT）微技術(shù)研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術(shù)，Microworks為客戶提供高精度微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品。在微納米技術(shù)領(lǐng)域，Microworks代表著高精度。在一個(gè)晶片內(nèi)或者從一個(gè)晶片到另一個(gè)晶片，其高縱橫比和精度可以遠(yuǎn)低于1µm。其產(chǎn)品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器（選頻濾波器）、微彈簧，RF等。
產(chǎn)品介紹：
由于材料中x射線的折射率略小于1，所以x射線透鏡有一個(gè)雙凹透鏡原件，每個(gè)聚焦元的焦距都非常小。通過線性地對齊許多元件，焦距可以顯著地減少到幾厘米的范圍。
沿光軸放置許多小透鏡元件，使入射的x射線光束逐漸聚焦到一個(gè)微米級焦點(diǎn)上。使用90度交替排列的原件使用垂直方向和水平方向都可以實(shí)現(xiàn)聚焦。透鏡元件的由SU-8光刻膠制成的，像聚合物在硅晶圓上。環(huán)氧樹脂抗蝕劑SU-8過去常使用在平板印刷過程中，它主要由高靈敏度、高靈敏度、x射線透明，且化學(xué)性能好和機(jī)械穩(wěn)定性的特點(diǎn)。目前透鏡的X射線穩(wěn)定性已經(jīng)測試到了≈2 MJ/cm3。
優(yōu)勢：
光軸不發(fā)生改變
聚焦質(zhì)量不會(huì)因長時(shí)間曝光而改變
易于安裝
菲涅爾透鏡可選
如果你需要CRL鏡，請告訴我們
1. 光子能量（KEV）（單色）
2. 光源尺寸(V [µm]× H [µm], FWHM)
3. SD，光源到鏡片中心距離（m）
4. WD, 工作距離，鏡片中心到焦點(diǎn)距離（mm）
5. 光源和透鏡間光學(xué)元件(虛擬光源，聚焦元件)的位置和和這些元件所在位置的光束尺寸。
6. 需要的聚焦光斑尺寸:(V [μm]× H [μm], FWHM)
7. 鏡頭中心到探測器平面的距離
參數(shù)：
適用能量范圍寬(> 8 keV)
入口孔徑:高達(dá)1500µm
聚焦尺寸：最小0.5 μm x 0.5 μm
透鏡材料：SU-8 (epoxy resist)
聚焦案列：
| 硬X射線聚焦（標(biāo)準(zhǔn)CRL） | X射線透鏡系統(tǒng)-焦距可變（變焦鏡） |
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· 點(diǎn)/線聚焦 · 適用于高能應(yīng)用>100KeV · 可用作準(zhǔn)直透鏡 | · 用戶可通過可移動(dòng)的聚焦元件來優(yōu)化工作距離 · 手動(dòng)或電動(dòng)驅(qū)動(dòng) · 100 mm x 120 mm x 100 mm的小巧外形尺寸 |
多聚焦條件透鏡系統(tǒng)（多焦點(diǎn)透鏡） | 大口徑、低吸收的X射線棱鏡透鏡 |
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· 為不同的設(shè)置而優(yōu)化的鏡頭可以安裝在一個(gè)鏡頭快中 · 最多可提供10x10透鏡矩陣(在150µm物理孔徑下) · 通過照亮整個(gè)光圈可在一個(gè)平面上的獲得多個(gè)焦點(diǎn) | · 聚焦案列： 12.4 keV, WD = 1.6 m Incident beam size: 1.5 mm x 1.5 mm Focus point size: 52 μm x 46 μm Delivery examples (SPring-8) BL13XU, BL43LXU |
