主要特點:
- 主機可同時安裝雙爐體
- 光源脈沖寬度軟件控制,連續可調
- PulseMapping技術
- 可提供適用于特殊材料、特殊應用的樣品支架
技術參數:
- 溫度范圍:-120 … 2800°C(不同爐體)
- 激光源:Nd:Glass激光,能量可調
- 導熱系數:0.1 ... 2000W/mK
- 真空度:10-5 mbar
- 樣品尺寸:方形8X8mm,10X10mm;圓形Ø6mm,Ø10mm,Ø12.7mm,Ø20mm;厚度0.1 … 6mm
- 測試氣氛:真空、惰性或反應氣體
- 支架類型:石墨、氧化鋁、碳化硅
- 樣品形態:固體、液體、粉末、薄膜