光學材料生產用超純水設備概述：
光學材料生產用超純水設備包括四個流程：洗滌、漂洗、脫水、干燥。 因為洗滌過程分溶劑清洗和水基清洗，所以有不同的工藝：有行溶劑清洗、溶劑蒸汽干燥再進行水基清洗；也有行溶劑清洗，再用乳化劑溶解溶劑，再進行水基清洗的。利用流水將洗滌后鏡片表面的洗劑和污物溶解、排除的過程稱為漂洗。
光學材料生產用超純水設備水質：
手機面板、光學鏡片、光學玻璃清洗對超純水水質要求高，帶電力離子和污垢會對鏡片產生不可逆損害,終端水質要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。
光學材料生產用超純水設備技術：
光電光學玻璃行業的 超純水設備主要是為玻璃清洗時給超聲波提供超純水，鍍膜玻璃鏡片清洗超純水設備設計上，采用成熟、可靠、自動化程度高的兩級RO+EDI+SMB除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關鍵設備及材料均采用主流可靠產品，采用PLC+觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。
光學材料生產用超純水設備標準：
1.研磨是光學玻璃生產中決定其加工效率和表面質量(外觀和精度)的重要工序。
2.研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數企業的加工過程中會有漆片。
3.其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。
4.根據鏡片的材質及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。
5.在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。
6.玻璃研磨過后，需要用超純水進行產品的清洗，以獲得高品質的產品。
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