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環(huán)保APP正式上線

德PVA TePla 微波等離子清洗機(jī)80 Plus HS

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷(xiāo)商
  • 更新時(shí)間2022/1/7 14:22:55
  • 訪問(wèn)次數(shù)285
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司-專注歐美日多家高科技儀器設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶提供*的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用范圍: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和應(yīng)用, 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。


半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano 針尖/電子束光刻機(jī)(Nano analytik), 紫外光刻機(jī),激光直寫(xiě)光刻機(jī),雙光子微納3D打印機(jī)(飛秒激光直寫(xiě)儀),英國(guó)Durham 無(wú)掩膜激光光刻機(jī),瑞士NanoFrazor 3D 微納直寫(xiě)機(jī),德國(guó)Sentech 刻蝕機(jī), 鍍膜機(jī)及ALD,英國(guó)HHV真空鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),日本及德國(guó)電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克光譜儀, 美國(guó)Thermo  Fisher賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品.

清洗機(jī),分析儀,測(cè)量?jī)x
80PlusHS微波等離子系統(tǒng) 是PVATePla在微晶片封裝方面提供的半導(dǎo)體業(yè)改革
德PVA TePla 微波等離子清洗機(jī)80 Plus HS 產(chǎn)品信息


80 Plus HS微波等離子系統(tǒng)

 

是PVA TePla在微晶片封裝方面提供的半導(dǎo)體業(yè)改革。

80 Plus High Speed (HS)正在申請(qǐng),對(duì)比與其他框架和基板片式處理等離子系統(tǒng),該設(shè)備是世界上一個(gè)單腔體支持片尺寸轉(zhuǎn)換,運(yùn)輸和處理并提升了3倍UPH的設(shè)備。該系統(tǒng)針對(duì)大批量的芯片制造商在引線鍵合前、塑封前、倒裝片底部填充前等應(yīng)用中提升收率和可靠性。

產(chǎn)量方面的業(yè)界新標(biāo)準(zhǔn):
? 高效率
? 支持 100x300mm 框架
? UPH達(dá)到900 strips/Hr


80 Plus HS
微波等離子系統(tǒng)

* 即將推出新型的Inline等離子清洗系統(tǒng),更高的UPH,更高的性價(jià)比。敬請(qǐng)期待!

PVA TePla 其它等離子清洗系統(tǒng)產(chǎn)品:

IoN Optimus 100
射頻等離子系統(tǒng)

GIGA 690
微波等離子系統(tǒng)

80 Plus
微波等離子系統(tǒng)

德國(guó) PVA TePla等離子清洗系統(tǒng)

PVA是歷史悠久的德國(guó)高科技上市公司,在等離子體、真空系統(tǒng)、晶體生長(zhǎng)等領(lǐng)域占據(jù)地位;PVA TePla是PVA的一個(gè)部門(mén),專業(yè)制造等離子清洗機(jī),廣泛應(yīng)用于電子,塑料,橡膠,玻璃等各種材料清洗及表面處理。作為生產(chǎn)等離子體處理設(shè)備的專家,PVA TePla可為半導(dǎo)體行業(yè)提供等離子體清洗設(shè)備和服務(wù)

的微波等離子(化學(xué))清洗方式

 

有別于傳統(tǒng)的射頻等離子(物理)清洗方式,微波等離子清洗可以清洗到樣品的每一個(gè)部位,實(shí)現(xiàn)清洗過(guò)程的自由基不會(huì)被障礙物所阻擋,并且不會(huì)改變表面的粗糙度。隨著封裝技術(shù)的進(jìn)步,在倒裝和疊晶片等封裝中,射頻等離子清洗并不能達(dá)到工藝要求,微波等離子清洗的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)使得更多用戶的選擇和使用PVA TePla。

等離子清洗在倒裝芯片封裝技術(shù)的已成為必須的過(guò)程, 提高產(chǎn)量。*的倒裝芯片設(shè)備在業(yè)界獲得顯著性,在穿透分鐘的差距的模具下,微波等離子體過(guò)程是的。根據(jù)不同模具的體積,所有表面均可被*激活和控調(diào)。PVA TePla 的微波等離子體一向可執(zhí)行,無(wú)空隙的倒裝芯片底部填充膠,的附著力和顯著增強(qiáng)的吸濕排汗速度。適合程度的應(yīng)用遠(yuǎn)遠(yuǎn)超出了芯片尺寸20x20mm和50μm以下的bumps。

PVA TePla等離子清洗系統(tǒng)在半導(dǎo)體的應(yīng)用:

 

? 射頻等離子在IC封裝的應(yīng)用

? 微波等離子在倒裝芯片(Flip chip)工藝的應(yīng)用



除半導(dǎo)體外的其它應(yīng)用:

 

生命科學(xué) (LIFE SCIENCE)

氣體等離子體(Gas Plasma)技術(shù)常用在精密清洗和激活,去污的表面,促進(jìn)功能的生物分子的粘附和結(jié)合特定的化學(xué)蒸氣滅菌的生物體內(nèi)和體外的醫(yī)療設(shè)備。

電子 (ELECTRONICS)

等離子用于在電子工業(yè)中各種各樣的應(yīng)用程序,包括從密封劑和粘合劑的粘合促進(jìn),提高釋放光盤(pán)母版壓模上的物質(zhì)。

工業(yè)等離子體應(yīng)用 (INDUSTRIAL PLASMA APPLICATIONS)

PVA TePla 是微波等離子體處理用于制造微芯片、MEMS器件、光伏電池、平板顯示器和探測(cè)器,和大多數(shù)工業(yè)應(yīng)用的市場(chǎng)。

? 增進(jìn)附著力(ADHESION PROMOTION)
? 重要的清潔(CRITICAL CLEANING)

 

IoN 100 等離子體系統(tǒng)

IoN 100 是專為滿足廣大客戶不斷變化的需求而設(shè)計(jì),它強(qiáng)調(diào)多功能性和控制他們的表面處理需求。其功能提供的過(guò)程控制狀態(tài),故障安全系統(tǒng)報(bào)警和數(shù)據(jù)采集軟件。這使系統(tǒng)在生命科學(xué)產(chǎn)業(yè),以滿足嚴(yán)格的質(zhì)量控制程序。

氣體等離子體系統(tǒng) - 等離子體筆
Atmospheric Plasma System - Plasma Pen

? 生命科學(xué)與科研產(chǎn)品
? 汽車(chē)、航天、航海方面
? 芯片級(jí)器件
? 電子產(chǎn)品包裝
? 平板顯示器
? 電線、電纜、光纖
? 玻璃制造

 

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