半導體新材料edi超純水系統產水水質可達到15~18.25MΩ水質，可應用于電子、醫藥、電力（核電、光電、磁電）、光學、半導體、表面處理、化工等相關行業清洗、添加劑以及符合相關水質要求的使用，同時可為客戶定制一系列小型去離子水設備，出水量較小，可滿足于化驗用水、小計量清晰用水要求，出水水質可根據客戶要求，進行設備工藝配置。

性能優勢：

1、整套系統采用全自動控制，操作簡單方便;

2、整套設備全不銹材質，水箱采用全不銹鋼醫藥專用水箱;

3、配備軟水器，保證RO系統及EDI系統因硬度的影響穩定運行;

4、采用進口海德能超低壓反滲透，脫鹽率高，使用壽命長，運行穩定，能耗低降低20%;

5、反滲透系統采用全自動方式控制，主要元件采用進口元件，穩定性高，操作簡單方便;

6、EDI系統采用了恒壓調節系統，確保水質穩定;

7、采用EDI膜堆，性能穩定，使用壽命長，并通過專業技術，確保EDI系統短時停機或長時間停機時水質保持穩定

半導體新材料edi超純水系統

工藝流程：

    原水(深井水)——原水箱——原水增壓泵——多介質過濾器——活性炭過濾器——樹脂軟化系統(或加藥系統、PH值調節系統)——5微米過濾器——反滲透主機系統——臭氧殺菌系統——純凈水箱

應用范圍：

    1、工業生產用軟化水、純水等，如：電子、電鍍、線路板、電路板、化工、飲料、食品、洗滌、滌染等。

    2、純水、超純水的預處理和深度處理。

    3、井水等日常用水的處理品