HMDS 烘箱原理
HMDS 烘箱也稱為HMDS預處理系統,HMDS蒸鍍機等,是將HMDS蒸汽通過干燥的真空腔內加熱到(120-150°C),在襯底表面上HMDS作為單層膜進行化學結合,使這樣的襯底表面具有疏水性。
HMDS 烘箱技術指標
溫度范圍:RT+10-250℃
真空度:≤133pa(1torr)
控制儀表:人機界面,一鍵運行
HMDS控制:可設定
HMDS工藝:進入腔體到尾氣排出*密閉,無任何泄漏
安全檢測:在線檢測,HMDS泄漏警 報提示
儲液瓶:HMDS儲液瓶
真空泵:無油渦旋真空泵
規格尺寸(mm):300*300*300/450*450*450、定制
數據記錄:開機、待機、升溫、壓力等數據記錄
功能:脫水烘烤、增粘劑蒸鍍、后烘
用途 :將HMDS氣相沉積至半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后,經系統加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變為疏水,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯劑的作用。
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