化工廢水次亞磷去除劑是一種新型高分子污水處理材料，一般添加到生化尾水中，在含磷廢水中起電中和多核絡合作用。在造紙廢水、尾礦廢水、印染和皮革廢水、電路板廢水和電鍍廢水的除磷處理中，去除率很高。
性能優勢：
廣泛應用于電鍍、線路板、磷化、化學鍍、陽極氧化、化學拋光清洗等高含磷廢水
效果明顯，去除快，不影響色度，沉淀少;
除磷后出水清澈，能達到出水標準；
不改變原有的處理流程，靈活添加；
真正的環保化學品，沒有二次污染。
化工廢水次亞磷去除劑反應機理：
次亞磷去除劑HMC-P3，采用均相共沉淀技術，可以直接與次亞磷結合生成沉淀，無需轉化為正磷進行處理，能夠讓水中的含磷污染物快速形成不溶性沉淀物而去除。去除效果好，能夠把磷處理至0.5ppm以下，總磷直接達到國家表三排放標準。
使用方法：
在電鍍廢水排放標準表三中要求，磷的排放口排放濃度要低于0.5mg/L，在新環保法要求下，處理磷指標的重要程度越發凸顯，在電鍍工序中，化學鎳鍍液中往往使用鈉作為還原劑，因此化學鍍鎳廢水中含有根離子。石灰或者鐵系除磷劑結合的效果。
次磷去除劑是一種無機復合鹽，由多種無機小分子組合而成，在催化劑的作用下，無機復合鹽離子之間相互結合形成橋鍵，形成正電荷場，能夠吸附根離子生成沉淀，從而把次磷去除。
次磷去除劑除磷時的工藝設計如下，首先，調節廢水pH至酸性，而后加入催化劑和次磷去除劑，通過均相共沉淀技術進行沉淀以后，加入次磷絮凝劑進行絮凝沉淀，出水測定磷含量。
