半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備廣泛用于生產(chǎn)計(jì)算機(jī)硬盤,集成電路芯片,半導(dǎo)體,顯像管,液晶顯示器,線路板等用的純水,對(duì)水的純度要求較高,對(duì)出水電阻率的要求達(dá)到上(MΩ.cm)級(jí),用預(yù)RO反滲透作為一級(jí)處理,再通過(guò)混床進(jìn)行二次處理,產(chǎn)品水符合電子行業(yè)用水相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)。控制部份采用PLC控制,可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)起停,加藥,及沖洗,自動(dòng)監(jiān)測(cè)各種運(yùn)行參數(shù),并可實(shí)現(xiàn)運(yùn)行參數(shù)的存儲(chǔ)和打印。
半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備功能
脫鹽率高,運(yùn)行壓力低的進(jìn)口的低卷式復(fù)合反滲透膜,產(chǎn)水水質(zhì)優(yōu)良,運(yùn)行成本低廉,使用壽命長(zhǎng)。高效率,低噪聲。
半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備工藝流程
1、預(yù)處理-反滲透-水箱-陽(yáng)床-陰床-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過(guò)濾器-用水對(duì)象。
2、預(yù)處理-一級(jí)反滲透-加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))-中間水箱-第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象。
3、預(yù)處理-二級(jí)反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象。
4、預(yù)處理-二級(jí)反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密過(guò)濾器-用水對(duì)象。
水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn),電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))。
半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備工藝參數(shù)
水質(zhì)要求:電除鹽系統(tǒng)的進(jìn)水水質(zhì)要求必須是一級(jí)反滲透的出水(電導(dǎo)率為4~20μS/cm)或與之相當(dāng)?shù)乃|(zhì)。
1、一般要求
2、系統(tǒng)中CO2問(wèn)題
CO2是一個(gè)關(guān)鍵因素。因?yàn)榉肿拥腃O2可以透過(guò)RO膜進(jìn)人后續(xù)系統(tǒng)中的混床或者EDI中的陰離子交換樹(shù)脂,加重陰離子的交換負(fù)荷。因此在一些情況下,系統(tǒng)中通過(guò)加NaOH來(lái)增加,H值,把CO2轉(zhuǎn)化成碳酸鹽和重碳酸鹽,有效地在RO膜中去除。
3、兩級(jí)RO出水問(wèn)題
一般認(rèn)為ROI→ROⅡ→EDI對(duì)EDI的出水質(zhì)量并不一定比ROI -EDI的出水質(zhì)量好。因?yàn)閮杉?jí)RO出水的電導(dǎo)率在1-2μS/cm,進(jìn)人到濃水、極水的導(dǎo)電特性不夠,導(dǎo)致模塊電阻上升,電流下降。模塊就不能將離子從主進(jìn)水流(穿過(guò)膜)中遷移到濃水中,產(chǎn)品水的水質(zhì)會(huì)受影響。如果RO出水的電導(dǎo)率小于2μS/cm, EDI濃水的進(jìn)水電導(dǎo)率應(yīng)設(shè)計(jì)在10~100μS/cm范圍內(nèi),使?jié)馑鏊妼?dǎo)率達(dá)到40~100μS/cm的理想值。濃水出水電導(dǎo)率可從濃水進(jìn)出口濃度和回收率進(jìn)行平衡計(jì)算,然后確定設(shè)計(jì)方案。為了優(yōu)化帶有兩級(jí)RO-EDI的系統(tǒng),
一般采用的措施有:
(l)從級(jí)RO出水(電導(dǎo)率大于20μS/cm)供給EDI的濃水、極水供水或從第二級(jí)RO進(jìn)水(電導(dǎo)率大于20μS/cm)供給EDI的濃水、極水。
(2)在EDI濃水、極水中加鹽優(yōu)質(zhì)NaCI。
質(zhì)量要求
氯化鈉(以固體中含量計(jì)算)>99.80%。
鈣和鎂(以Ca計(jì)算)<0. 05%。
銅<0. 5× 10-6。
鐵<5. 0× 10-6。
重金屬(以Pb計(jì)算)<2. 0 ×10-6。
大約維持電導(dǎo)率在10~100μS/cm,以達(dá)到出口水電導(dǎo)率為40~l00μS/cm。加鹽裝置包括計(jì)量泵、鹽液計(jì)量箱和低液位開(kāi)關(guān)。加鹽泵應(yīng)采用變頻計(jì)量泵,以便在系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)由PLC控制劑量。為避免濃水中離子過(guò)度積累,需要排放少量濃水。排放掉的濃水由進(jìn)水補(bǔ)充,控制濃水的電導(dǎo)率在150~600μScm之間(或按照EDI產(chǎn)品要求而定)。
4、進(jìn)水的pH值
進(jìn)水的pH值表示了進(jìn)水中H+的含量,一般進(jìn)水控制在5-9.5之間。通常情況下,pH值偏低是由于CO2的溶解引起的。由于是弱電離物質(zhì),COZ也是導(dǎo)致水質(zhì)惡化的因素之一,所以在進(jìn)EDI系統(tǒng)之前,一般可以安裝一個(gè)脫碳裝置,使得水中的CO2控制在5mg/L以下。水中pH值和CO2存在一定溶解關(guān)系,理論上當(dāng)pH>10時(shí)。高pH值有助于去除弱電離子,但是前提是必須在進(jìn)EDI系統(tǒng)前除去Ca2t+、Mg2+等離子。
半導(dǎo)體行業(yè)用超純水設(shè)備應(yīng)用場(chǎng)合
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路。
2、超純材料和超純化學(xué)試劑。
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車間。
4、汽車、家電表面拋光處理。
5、其他高科技精微產(chǎn)品 。