2-12寸
1、上下料方式： 高效機械手自動傳送
2、離心機轉速
額定轉速： 2000 rpm
最小調整量： 1rpm
轉速精度： ±3rpm（50 rpm～2000 rpm）
3、夾持方式： 真空吸附
或多點支撐、四角夾緊、機械安全限位的方式（可選）
4、藥液回收循環使用功能。
5、刻蝕液加熱：在線加熱器，MAX： 50℃±2℃
6、背噴功能：氮氣，1路
7、刻蝕液過濾器：0.2um
8、滅火系統：二氧化碳滅火系統
應用行業
廣泛應用于LED、分立器件、*封裝、科研等領域。
寧波潤華全芯微電子設備有限公司(ALLSEMI)，簡稱ASI，位于文化底蘊豐厚、風景秀麗、交通便利的寧波余姚市，在北京、武漢和廈門設有銷售服務分支機構。公司匯聚了一批高素質專業人才，致力于民族半導體裝備產業的振興，專注于新型電子器件生產設備的研發、設計、銷售及售后服務。全芯公司與中國臺灣、韓國多家公司合作，可提供整線設備解決方案和電子科技領域內的技術咨詢服務。 公司通過ISO9001質量體系認證，秉承“專業、誠信、創新、共贏”的經營理念廣泛服務于化合物半導體、LED、SAW、 OLED、光通訊、MEMS、*封裝等新型電子器件制造領域， 配備了快速響應的銷售和技術服務團隊。寧波潤華全芯微電子設備有限公司將以*可靠的產品，優質的服務贏得客戶信賴，成為一家具有國際影響力的半導體裝備及工藝解決方案提供商。
全自動刻蝕機-AE12P 產品信息
單片濕法刻蝕設備，能適應HF,HCL,H3PO4等多種刻蝕液，可刻蝕金屬有Gr、Ni、Ti、Cu、Au等。本設備工作過程中由擺臂系統旋轉交替噴液，多層Cup結構可實現不同刻蝕液的分類排放與回收。專業的工藝腔體結構，在刻蝕電鍍或濺射形成的金屬膜的前提下，既能保證刻蝕的均勻性、刻蝕率，還可以保證各種化學品的使用安全性。本設備能滿足縱向刻蝕深度尺寸較大，橫向刻蝕深度精度高的工藝要求，在刻蝕工藝完成后，晶圓刻蝕溝槽和深孔等圖形側壁陡直規整，均勻性可達5%以內。 晶片尺寸
2-12寸
1、上下料方式： 高效機械手自動傳送
2、離心機轉速
額定轉速： 2000 rpm
最小調整量： 1rpm
轉速精度： ±3rpm（50 rpm～2000 rpm）
3、夾持方式： 真空吸附
或多點支撐、四角夾緊、機械安全限位的方式（可選）
4、藥液回收循環使用功能。
5、刻蝕液加熱：在線加熱器，MAX： 50℃±2℃
6、背噴功能：氮氣，1路
7、刻蝕液過濾器：0.2um
8、滅火系統：二氧化碳滅火系統
應用行業
廣泛應用于LED、分立器件、*封裝、科研等領域。
2-12寸
1、上下料方式： 高效機械手自動傳送
2、離心機轉速
額定轉速： 2000 rpm
最小調整量： 1rpm
轉速精度： ±3rpm（50 rpm～2000 rpm）
3、夾持方式： 真空吸附
或多點支撐、四角夾緊、機械安全限位的方式（可選）
4、藥液回收循環使用功能。
5、刻蝕液加熱：在線加熱器，MAX： 50℃±2℃
6、背噴功能：氮氣，1路
7、刻蝕液過濾器：0.2um
8、滅火系統：二氧化碳滅火系統
應用行業
廣泛應用于LED、分立器件、*封裝、科研等領域。
