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Reactive Ion Etcher (RIE)反應式離子刻蝕機/ICP感應耦合反應離子刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱諾有測控科技(上海)有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2022/12/21 16:04:58
  • 訪問次數970
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諾有測控科技(上海)有限公司是中國(上海)自由貿易試驗區入駐企業。公司立足于上海,面向市場,是的測試儀器設備供應商,擁有產品研發中心、生產基地和進出口權,公司實力雄厚。 多年來我們建立及健全了一支由多名來自不同領域、不同國籍、且在各領域擁有良好經驗的高學歷的科學家組成的技術隊伍;擁有一批畢業于各高等院校或從事過測試領域工作的、有著良好行業經驗的銷售隊伍;亦發展了一支經驗豐富,經過技術培訓并有多年維修服務經驗的售后服務團隊;同時我們亦配備了足夠的人力從事訂貨、物流、客戶服務工作。所有這一切,均為我們達到公司的宗旨“為客戶提供、質的服務,一切以客戶為依歸”提供了堅實的基礎。 通過與業務伙伴的緊密合作,憑借覆蓋全國的營銷服務網絡,致力于為客戶提供專業、方便、快捷的本地化服務。同時,我們的產品還遠銷到東南亞、印度、巴西、非洲、歐洲、美國等市場。 我們的客戶涉及新能源、汽車、通信及信息技術、教育科研、航空航天、微電子、、生物醫藥、節能環保、工業電子等行業和領域。 展望未來,我們將緊隨時代步伐,在測試科研領域不斷發展,我們也將繼續通過不懈的努力,為客戶提供"更豐富的產品選擇、更經濟的解決方案、更全面的專業服務"。
一體型機臺,結構緊湊,整機占地空間900mm*1100mm~800mm*1560mm
Reactive Ion Etcher (RIE)反應式離子刻蝕機/ICP感應耦合反應離子刻蝕機 產品信息

一體型機臺,結構緊湊,整機占地空間900mm*1100mm ~ 800mm*1560mm;

基于工控機的控制方案,自主開發的全自動控制系統,可高度定制化;


特點:

● 一體型機臺,結構緊湊,整機占地空間900mm*1100mm ~ 800mm*1560mm;
● 基于工控機的控制方案,自主開發的全自動控制系統,可高度定制化;
● 機臺配置靈活,可作為專用刻蝕機臺也可以用于多用途刻蝕機臺;
● 模塊化設計,維護與升級極其方便;
● 工藝性能*穩定。

主要技術性能指標:

● 樣片尺寸:2英寸及以下小尺寸碎片和非晶圓樣品、4英寸晶圓、4~6英寸晶圓、8英寸晶圓(可定制12英寸);
● BRF功率源: 300W/500W可調,13.56MHZ;500W/1,000W可調,13.56MHZ;1,000W/2,000W可調,13.56 & 27MHZ;
● 氣體種類: RIE: O2,Ar,CF4,SF6,CHF3(標配三路氣體);ICP:H2,CH4,O2,N2,Ar,SF6,CF4,CHF3,C4F8,NF3,NH3,C2F6等;
● 氣體流量控制:MFC;
● 樣片控溫: RIE 10℃~室溫,ICP控溫精度±1℃; -30°C~100°C/200/°C定制;
● 控制系統:工控機,板卡結構;全自動(可定制);
● 交互界面:觸摸屏;
● 蝕刻材料:RIE: 硅、二氧化硅、石英、氮化硅、有機材料;ICP:硅基材料、金屬材料、有機材料、三五族和二六族化合物、陶瓷材料等。

主要應用:

● 芯片失效分析去層蝕刻(RIE/ICP);
● 光電子三五族材料蝕刻(ICP);
● 深硅蝕刻和圖形加工(ICP);
● 光刻膠等有機物殘留去除(ICP)。

型號:SHL FA100P-RIE/ SHL FA150E-RIE/ SHL200-ICP/ SHL200S-ICP/ SHL200C-ICP/ SHL200D-ICP

15700106413
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