產品參數
針對微米、亞微米顆粒的高精密清洗設備
產品特點:
1. 能滿足其他大型清洗設備所不能達到的清洗需求。
2. 操作簡單 通電即可運行,便捷易上手,可用于長時間作業。
產品應用領域:
1. 半導體材料、電子電路、芯片制備及3C硬件產業。
2. 芯片、電極、磁頭、磁盤以及各種微電子產品.
產品優勢:
全封閉超凈間設計
長焦深設計
可定制平臺
基本參數:
設備型號/Model | RL-UQ5-A | RL-UQ10-A | RL-UQ20-A |
輸出功率/Average output power | 5W | 10W | 15W |
功率調節范圍/Output tunability | 10-99%(連續可調) | ||
功率穩定性/Stability | 3% | ||
冷卻方式/Cooling | 水冷 | ||
電力要求/Power supply | 單相220V±10% 50-60Hz | ||
環境濕度/Operating humility | 20%-80% | ||
場鏡焦距/Focal length | 50mm-500mm(可選) | ||
掃描路徑/Scanning path | 5種任選 | ||
有效焦深/Rayleith length | 20mm(可定制) |