日本thermocera小型臺式氣氛爐mini bench
我們根據您的預算和目的,從最小的配置(加熱器/腔室+控制箱)中為碳爐(真空,惰性氣體)和金屬爐(真空,惰性氣體,還原氣氛)提出最佳系統。
內徑Φ80mm坩堝內試,Φ1~4英寸晶圓燒成尺寸緊湊,操作方便 溫度快速升至2000°C!
可廣泛應用于SiC和GaN器件的基礎研究,新材料和新材料的開發以及其他的基礎研究和產品開發部門。
特征
桌面尺寸小,可安裝在實驗室的有限空間內。
我們可以根據要求的燒制條件響應定制設計。
我們將提出適合您預算的設備配置。
【設備配置】
(a) 腔室 + 控制箱 (b) 腔室 + 控制箱+ 真空排氣系統(泵、儀表、閥門、真空管道)
*訂購時請按照說明進行操作。
?要求的設備配置(上述A或B)、爐膛加熱范圍尺寸、樣品材料、形狀、燒成溫度條件、爐氣氛(真空燒制、氣體類型)
日本thermocera小型臺式氣氛爐mini bench
原理圖規格
真空和氣體置換爐(碳爐) | 還原氣氛爐(金屬爐) | |
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最高工作溫度 | 最高2000°C | |
加熱器 | 石墨或C/C復合加熱器 | 鎢加熱器 |
絕緣 | 石墨氈材料 | 鎢屏蔽層,氧化鋁絕緣 |
真空室 | SUS304水冷夾套結構,頂部裝載,線性驅動驅動開/關(*Φ3,僅4英寸) | |
使用氛圍 | 在真空或惰性氣體(Ar、N2)中 | 在真空中,惰性氣體(Ar,N2),還原氣體(H2等) |
有效加熱范圍 | Φ1“~ Φ4”(用于晶圓片進料燒制的平面加熱器),或 -Φ80 x 深度 最大100 (H) mm (圓柱形加熱器) | |
極限真空度 | 1x10-2 帕斯卡(* 用于空爐) | |
真空泵 | 旋轉泵(可選:干泵、高真空泵) | |
熱電偶 | 包括C型熱電偶 | |
聯鎖 | 腔室表面溫度、加熱器超溫(可選:冷卻水) | |
公用設施和冷卻水 | 加熱器額定值最大 6KVA(* 取決于加熱范圍尺寸),冷卻水 3 升/分鐘 0.4Mpa |
加熱器
平面加熱絲(用于晶圓):C / C復合材料(或鎢)
圓柱形加熱絲(用于坩堝):C / C復合材料(或鎢)
* 根據加熱范圍的尺寸,通過組合平面加熱器和圓柱形加熱器,可以在整個坩堝中均勻加熱。