thermocera連續薄膜沉積濺射設備
高性能RF/DC磁控濺射裝置
連續多層膜，雙源同步膜沉積，APC自動壓力控制
? 極限壓力： 5 x10-5 帕斯卡
? 多達 3 個源 Φ2“ 磁控管陰極
? 自動多層連續薄膜，也可同時沉積
? 直觀的操作 多功能軟件”Intellidep“
? 包括用于Windows PC連接的遠程軟件”IntelliLink”
高性能射頻/直流磁控濺射設備。 雖然它很小，但它是一種滿足追求高性能的用戶的設備，不允許在薄膜質量上妥協，例如一般金屬薄膜，絕緣體和化合物。 它還支持多達 3 源陰極、多層連續薄膜和同步沉積（*僅限射頻和直流組合）的應用。 選項包括加熱器、旋轉和提升、磁性材料的陰極以及帶電容壓力計的高精度壓力控制。
優異的基本性能
極限真空 5x10-5 帕斯卡
SUS304 高真空室
快速真空到達（約1分鐘至10x3-10Pa）
膜均勻性：±3%（絕緣膜），±5%（金屬膜）
高性能系統
7“ 觸摸屏，用于集中管理所有操作、薄膜沉積控制和數據管理
自動連續多層沉積控制
同步薄膜沉積（*射頻-直流、直流-直流同步雙源沉積）
APC 控制（PID 自動壓力控制）
PLC自動排序（抽真空，排氣）操作
很多選擇
電路板旋轉，向上/向下仰角
PCB加熱加熱器500°C
MFC x 3 應變（Ar、O2、N2）反應濺射
用于磁性材料的高強度磁鐵選項
快速排氣（至少 6 分鐘）
thermocera連續薄膜沉積濺射設備
主要規格
| 納米PVD-S10A標準配置 | 納米聚氯乙烯-S10A-WA | |
|---|---|---|
| 電路板尺寸 | Φ2英寸?Φ4英寸 | Φ6英寸?Φ8英寸 |
| 磁控管陰極 | Φ2英寸 x 1 個信號源（標準）可添加 2 個信號源 | |
| 濺射電源 | DC850W、RF150W（ 帶自動匹配） 或雙直流和射頻電源 | |
| 等離子繼電器軟件 | 1：3（1 個電源輸入→3 個陰極分布） 2：3（2 個電源輸入→3 個陰極分配） | |
| 真空泵 | 渦輪分子+旋轉泵（干泵選項） | |
| 真空計 | WRG 活塞壓力計，電容壓力計（可選） | |
| 質量流量控制器 | 1 條線路 （Ar） + 2 條附加線路（N2、O2） | |
| 板旋轉和提升 | 10級可變轉速，50mm提升 | |
| 基板加熱 | 最高500°C燈加熱 | |
| 石英晶體膜厚度監測儀 | 可添加 1 個單位 + 1 個附加單位 | |
| 快門 | 源快門板快門 | |
| 權力 | 200V 三相 10A 50/60Hz | |
| 冷卻水 | 1里托魯/分鐘 18-20°C <400kpa（最大） | |
| 壓縮空氣 | 415?4550kpa | |
| 排氣 | N2 35kpa | |
| 適用于 Windows PC 的“IntelliLink”遠程軟件 | 使用隨附的USB電纜連接到設備，系統實時監控（操作狀態監視器）， 錯誤分析 ，配方創建，存儲，上傳 ，數據記錄，CSV格式輸出 | |
