Lam 9600 旨在蝕刻具有高度垂直側壁的鋁金屬和 TiW 層,適用于 0.35 um 線寬。等離子體是一種中高密度、變壓器耦合等離子體,類似于 ICP 源,允許單獨控制線圈(頂部電極)功率和壓板(下部電極)功率。在腔室中,晶圓被機械夾持到水冷壓板上,He 背面氣體提供耦合。Cl2/BCl3 化學成分用于 Al 和 SF6 用于 TiW 層。TiW 蝕刻和 Cl 鈍化步驟(也使用 SF6)可以在出口鎖或主腔室中進行。預計 Cl 化學對 Al2O3 層以及具有最小底切的硅溝槽有效。
青島佳鼎實驗室,坐落于城之向陽地——城陽。自2011年成立之初,便誓將科技之光照耀四方。
十年的時間里,公司因擴展數度搬遷,最后選擇接受博士創業園的吸納并安家落戶。與此名交相輝映的是我們30余人的研發團隊,也是以博士后為主。這就為我們今后的發展奠定了堅實的基礎,使我們在未來的發展中,有底氣的大踏步前進。目前,佳鼎實驗室已經形成了一站式服務,不僅有實驗室分析儀器設備的研發和銷售,更有實驗室的整體交付。做到了初時毛坯,再見時嚴謹整潔,隨時可以為人類健康貢獻自己的力量。
產品服務于各行各業,從科研機構到環境、食品,從醫藥生物到電子電器。我們從不止步于國內,放眼,我們聯合了包括美國賽默飛世爾、日本島津、在內的多國實驗室,并且積累了大量的科研資料,在分析設備的研發領域做了大量的深度工作。
佳鼎實驗室堅信以質量為生命,以客戶為中心的經營理念,為打造實驗室建設規范化而不斷奮斗。
Lam 9600 旨在蝕刻具有高度垂直側壁的鋁金屬和 TiW 層,適用于 0.35 um 線寬。等離子體是一種中高密度、變壓器耦合等離子體,類似于 ICP 源,允許單獨控制線圈(頂部電極)功率和壓板(下部電極)功率。在腔室中,晶圓被機械夾持到水冷壓板上,He 背面氣體提供耦合。Cl2/BCl3 化學成分用于 Al 和 SF6 用于 TiW 層。TiW 蝕刻和 Cl 鈍化步驟(也使用 SF6)可以在出口鎖或主腔室中進行。預計 Cl 化學對 Al2O3 層以及具有最小底切的硅溝槽有效。
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