產品簡介:450型電子束蒸發鍍膜系統用于制備導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜等,廣泛應用于大專院校、科研機構的科研及小批量生產。
產品型號 | 450型電子束蒸發鍍膜系統 |
技術參數 | 系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機臺等部分組成。 技術指標: 極限真空度:≤6.7×10 Pa 恢復真空時間:從1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 系統漏率:6. 7×10-7Pa.L/S; 真空室:真空室500x500 x600mm采用U型箱體前開門,后置抽氣系統e型電子槍:陽極電壓:6kv、8kv(1套) 坩堝:水冷式坩堝,四穴設計,每個容量11ml 功率:0-6KW可調 電阻蒸發源(可選) 電壓:5、10V 功率:電流300A,輸出功率3Kw1套,可切換水冷電 極3根,組成2個蒸發舟 基片尺寸:可放置4″基片 樣品臺:基片可連續回轉,轉速5-60轉/分基片與蒸發源之間距離300-350mm加熱溫度 800°C±1°C,可調手動控制樣品擋板組件1套 氣路系統:質量流量控制器1路 石英晶振膜厚控制儀:監測膜厚顯示范圍:0-99μ9999Å |