一、產品原理介紹：  

（1）半導體清洗 光刻膠清洗機KT-S2DQX-C型等離子清洗機屬于13.56MHz的射頻電源清洗。作為一種精密干法清洗設備，主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。  

（2）該清洗機內置高純石英倉體，有效容積為500ml，結構為國際上的通用的真空石英法蘭密封結構。采用了新型的外觀結構設計和固態電源技術，使其有效容積增大，不同真空氣體環境下容易匹配，且控制頻率穩定。  

（3）真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗樣品清洗和教學。  

二、半導體清洗 光刻膠清洗機的優點：  

1.全自動控制使用方便，更長的制程執行時間  

2.操作簡易和靈活標準的平臺安裝  

3.快速實現客戶定制高效率——低發熱量  

4.使用簡易，節省成本多功能前面板  

5.高質量、快速的服務和支持直觀的液晶顯示操作菜單  

6.高純石英腔體減少樣品污染可定時功能，時間更精準  

7.射頻屏蔽安全可靠*緊急停止，應對各種突發情況

三、智能控制滾筒等離子清洗機KT-G1DQX技術參數：