該鍍膜機為前開門箱式電子束蒸發鍍膜設備，該鍍膜機功能強、鍍膜質量穩定、重復性好、操作簡便。適用于制備導電薄膜，半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜，高性能薄膜研究及新材料科學研究工作。

　　鍍膜機的真空室材料均采用優良材質SUS304 不銹鋼材料制造，工藝規范、精致，具有高真空度、高清潔度，可以保證材料的成膜純度。

　　采用大抽速的變頻控制分子泵+直聯機械泵機組，具有抽速快、無油、操作方便快捷、易于維護的特點。配備270°E型電子束蒸發源，電源穩定，控制精度高，帶有高壓自動滅弧復位裝置，操做簡便，性能可靠。

　　適合大學物理、材料、化學等領域的學生實驗及教師科學研究。

◆ 鍍膜室體積：500mmX500mmX600mm；

◆ 極限真空度：6.7X10-5 Pa，恢復真空：從大氣抽至6.7X0-4 Pa （40分鐘）；

◆ 真空抽氣系統：機械泵與分子泵組成；

◆ 真空測量系統：數顯復合真空計；

◆ 蒸發源：電子束蒸發源：E型電子槍，功率0～6KW可調；電阻蒸發源：功率3kW/10V兩組；

◆ 工件烘烤溫度：室溫～350℃可控可調（PID控溫）；

◆ 選配件：光學膜厚測量儀、石英晶振測厚儀、高壓離子轟擊、霍爾離子源、冷卻水機組等；

◆ 供電電源：三相AC380V，50Hz。

◆ 特殊規格可定制。