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日本理學全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760-華普通用

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱深圳華普通用科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質代理商
  • 更新時間2023/8/5 14:27:07
  • 訪問次數201
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    深圳華普通用科技有限公司(簡稱華普通用)是一家專業從事儀器儀表代理的綜合性服務公司。德國斯派克:www.hpge.com.cn公司前身于2004年成立。目前已經成為國內較大的儀器經銷商,系統集成商和綜合服務商之一。
    公司業務分為電子測試儀器部,化學分析儀器部,材料分析儀器部,電磁兼容測試儀器部以及芯片燒錄設備部。華普通用與美國力科(LECORY)、美國吉時利(KEITHLEY)、美國科學儀器公司STI、美國SerialTek、德國斯派克(SPECTRO)、美國SANBlaze、瑞士特測(TESEQ) 、中國臺灣崇貿(SystemGeneral) 、以色列HERMON Labs、西班牙ALBEDOTelecom SL、日本TAKAYA等數十家*儀器制造商在中國區有著廣泛的合作。 *致力于為電子信息、教育科研、電力石化、醫藥衛生、金屬塑膠等領域提供分析測試儀器和系統集成。2013年營業額超過1億元人民幣。
    公司總部位于深圳市南山區科技園,在北京、上海、香港、廣州、蘇州、廈門等地設有分支機構,員工人數50多人。通過與分銷伙伴的合作,擁有覆蓋全國的服務網絡。華普通用擁有一批技術型的銷售工程師和專業的售后隊伍,在多年的發展中積累了大量的案例和經驗,能夠給客戶提供迅速、完善、專業的服務。長風破浪會有時,直掛云帆濟滄海,華普通用將通過不懈的努力,繼續專注于為客戶提供分析測試解決方案,和客戶一起成功!

光譜儀
全反射 X 射線熒光光譜儀表面污染計量測量離散點的元素污染或使用完整的晶圓圖
日本理學全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760-華普通用 產品信息

全反射 X 射線熒光光譜儀
全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760分析可以測量所有晶圓廠工藝中的污染,包括清潔、光刻、蝕刻、灰化、薄膜等。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760 可以使用單目標 3 光束 X 射線系統和無液氮探測器系統測量從鈉到 U 的元素。

全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF 3760 包括理學獲得的 XYθ 樣品臺系統、真空晶圓機器人傳輸系統和新的用戶友好型窗口軟件。所有這些都有助于提高吞吐量、更高的準確度和精度,以及簡化的日常操作。

可選的掃描TXRF軟件可以繪制晶圓表面上的污染物分布圖,以識別可以更高精度自動重新測量的“熱點”。可選的 ZEE-TXRF 功能克服了原始 TXRF 設計歷 15 mm 邊緣排除的問題,使測量能夠以零邊緣排除進行。


特征
  • 易于操作,分析結果快速

  • 接受 200 mm 及更小的晶圓

  • 緊湊的設計,占地面積

  • 大功率旋轉陽極源

  • 多種分析元素(Na~U)

  • 輕元素靈敏度(針對鈉、鎂和鋁)

  • 應用于裸硅和非硅基板

  • 從缺陷檢測工具導入測量坐標以進行后續分析

規格
產品名稱TXRF 3760
技術全反射 X 射線熒光 (TXRF)
效益從Na到U的快速元素分析,以測量所有晶圓廠工藝中的晶圓污染
科技帶無液氮探測器的 3 光束 TXRF 系統
核心屬性高達 200 mm 的晶圓、XYθ 樣品臺系統、真空晶圓機器人傳輸系統、ECS/GEM 通信軟件
核心選項掃描TXRF軟件可以繪制晶圓表面上的污染物分布圖,以識別“熱點”。ZEE-TXRF 功能可實現零邊緣排除的測量
計算機內置電腦,微軟視窗操作系統®
核心尺寸1000 (寬) x 1760 (高) x 948 (深) 毫米
質量100 千克(核心單元)
電源要求3?, 200 VAC 50/60 Hz, 100 A


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