單靶直流磁控濺射鍍膜儀 直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,7寸人機(jī)界面,自動手動模式切換控制,功率可達(dá)1000w
直流磁控濺射單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電#分享秋日好天氣# 薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等單靶直流磁控濺射鍍膜儀單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。單靶直流磁控濺射鍍膜儀所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作