Sigma 300 場發射掃描電子顯微鏡
用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡
靈活的探測,4步工作流程,高級的分析性能
將高級的分析性能與場發射掃描技術相結合,利用成熟的 Gemini 電子光學元件。多種探測器可選:用于顆粒、表面或者納米結構成像。Sigma 半自動的4步工作流程節省大量的時間:設置成像與分析步驟,提高效率。 Sigma 300 性價比高。Sigma 500 裝配有的背散射幾何探測器,可快速方便地實現基礎分析。任何時間,任何樣品均可獲得精準可重復的分析結果。
用于清晰成像的靈活探測
- 利用探測術為您的需求定制 Sigma,表征所有樣品。
- 利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。
- 利用新一代的二次探測器,獲取高達50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創新的 C2D 和 可變壓力探測器,在低真空環境下獲取高達85%對比度的銳利的圖像。
自動化加速工作流程
- 4步工作流程讓您控制 Sigma 的所有功能。在多用戶環境中,從快速成像和節省培訓首先,先對樣品進行導航,然后設置成像條件。
- 首先,先對樣品進行導航,然后設置成像條件。
- 接下來對樣品感興趣的區域進行優化并自動采集圖像。最后使用工作流程的步,將結果可視化。
高級分析型顯微鏡
- 將掃描電子顯微鏡與基本分析相結合:Sigma 的背散射幾何探測器大大提升了分析性能,特別是對電子束敏感的樣品。
- 在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數據。
- 獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角,獲取完整且無陰影的分析結果。
基于成熟的 Gemini 技術
- Gemini 鏡頭的設計結合考慮了電場與磁場對光學性能的影響,并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。
- Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率,通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間。
- Gemini 電子束加速器技術確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。
用于清晰成像的靈活探測
- 利用新的探測技術表征所有的樣品。
- 在高真空模式下利用創新的 ETSE 和 in-lens 探測器獲取形貌和高分辨率的信息。
- 在可變壓力模式下利用可變壓力二次電子和 C2D 探測器獲取銳利的圖像。
- 利用 aSTEM 探測器生成高分率透射圖像。
- 利用 BSD 或者 YAG 探測器進行成份分析。
配件
SmartEDX
為您帶來一體化能譜分析解決方案
如果單采用SEM成像技術無法全面了解部件或樣品,研究人員就需要在SEM中采用能譜儀(EDS)來進行顯微分析。通過針對低電壓應用而優化的能譜解決方案,您可以獲得元素化學成分的空間分布信息。得益于:
- 優化了常規的顯微分析應用,并且由于氮化硅窗口優秀的透過率,可以探測輕元素的低能X射線。
- 工作流程引導的圖形用戶界面極大地改善了易用性,以及多用戶環境中的重復性。
- 完整的服務和系統支持,由蔡司工程師為您的安裝、預防性維護及保修提供一站式服務。