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ICP干法等離子刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱上海沛沅儀器設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地上海
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/7/30 7:42:39
  • 訪問次數126
產品標簽:

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上海沛沅儀器設備有限公司專業從事等離子體應用技術研究開發和相關設備、產品的生產,并致力于等離子體應用技術的市場推進和產業化。公司由長期從事等離子體應用技術研究開發、多次參與國家重大科學工程研究的專家和產業化專家聯合創建,核心團隊來自中科院應用物理研究所、中國科技大學、上海科技大學,美國橡樹嶺實驗室歸國博士等科研機構。公司擁有一批等離子體應用技術方面的專家,建立起一支經驗豐富的融合了等離子體技術、電氣自控技術、機械設計加工和成套工程技術的精英團隊。將團隊本身科研技術植入到公司產品之中,拓展產品功能,提升產品性能和開發新的應用領域。公司在等離子體領域已經積累了一整套具有自主知識產權的系列產品和技術,在國內居地位,并已與國內外眾多家大學、科研機構和企業等用戶有著密切的合作關系。公司的愿景是成為等離子體應用領域的優質供應企業,用科研的沉淀和應用的創新,為中國的制造業崛起和化戰略盡自己的義務和責任。
PLUTO-WIN是面向科研及企業研發客戶使用需求設計的高性價比ICP等離子體系統。作為一個多功能系統,它通過優化的系統設計與靈活的配置方案,獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設備結構緊湊占地面積小,專業的機械設計與優化的自動化操作軟件使該設備操作簡便、安全,且工藝穩定重復性很好。
ICP干法等離子刻蝕機 產品信息
產品特點

4/6/8英寸兼容,單片晶圓真空傳輸系統

低成本高可靠,適合研發及小規模生產

● 設備結構簡單,外形小

● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕

● 優異的刻蝕均勻性,刻蝕速率快

滿足半導體標準的配方驅動及管理軟件控制系統

● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小

● 斷面輪廓可控性高,刻蝕表面平整光滑


技術參數

晶圓尺寸:4/6/8英寸兼容

適用工藝:等離子體刻蝕

適用材料:SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy,etc.


應用領域

適用領域:化合物半導體,MEMS、功率器件、科研等領域


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