濕法激光粒度分析儀采用的Mie氏散射原理和會(huì)聚光傅立葉變換光路,傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭雙鏡頭技術(shù)的采用保證了儀器的測(cè)量精度,高密度陣列探頭及全量程無(wú)縫銜接測(cè)試方法,保證了測(cè)試結(jié)果的準(zhǔn)確性和重復(fù)性。特別的濕法循環(huán)分散系統(tǒng)采取了管道無(wú)殘留設(shè)計(jì),保證顆粒測(cè)試過(guò)程中無(wú)顆粒沉積現(xiàn)象,測(cè)試排水后無(wú)廢液積存現(xiàn)象,不但證了測(cè)試不同樣品的準(zhǔn)確性,還保證了第二次測(cè)試精度,使測(cè)試結(jié)果更真實(shí)可靠。
適用范圍:
儀器被廣泛應(yīng)用于各種金屬、非金屬粉:如重鈣、輕鈣、滑石、高嶺土、石墨、硅灰石、水鎂石、重晶石、云母粉、膨潤(rùn)土、硅藻土、黏士、二氧化硅、石榴石、硅酸錯(cuò)、氧化錯(cuò)、氧化鎂.氧化鋅、河流泥沙、鋰電池材料、催化劑、熒光粉、水泥、磨料、醫(yī)藥、農(nóng)藥、食品、涂料、染料、陶瓷原料、化工材料、納米材料、造紙?zhí)盍贤苛稀⒏鞣N乳液等。
濕法激光粒度分析儀產(chǎn)品參數(shù):
測(cè)量原理:全量程激光衍射;
粒徑范圍:0.1um~800μm(全量程測(cè)試);
探測(cè)系統(tǒng):70通道均勻交叉及面積補(bǔ)償多方位陣列;
激光器:進(jìn)口大功率光纖輸出半導(dǎo)體激光器,波長(zhǎng)635nm、功率最大20mw;
光學(xué)模型:全量程米氏散射理論,包含高濃度多重散射動(dòng)態(tài)補(bǔ)償技術(shù);
濾波方式:雙鏡頭濾波技術(shù),傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭;
采集主板:高速采集主板(10000次/秒);
濃度范圍:遮光度3%,最高遮光度90%(光學(xué)濃度);
樣品池:特殊鍍膜工藝處理,光信號(hào)透過(guò)率>99.7%
光學(xué)對(duì)中系統(tǒng):機(jī)械中心+光學(xué)中心雙定位全自動(dòng)對(duì)中系統(tǒng);
測(cè)量時(shí)間:典型值<10秒;
測(cè)量精度:準(zhǔn)確性、重復(fù)性Dv50均優(yōu)于±0.5%(NIST可溯源標(biāo)準(zhǔn)樣品);
測(cè)量方式:SOP可編輯全自動(dòng)測(cè)量;
環(huán)境溫度:0°℃-45°℃;
環(huán)境濕度:10%-85%相對(duì)濕度(無(wú)結(jié)凝);
電源要求:220V(±20V),50Hz-60Hz;
執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn):GB/T19077-2016/ISO13320:2009;
外觀尺寸:800mm×280mm×335mm;
儀器重量:38kg。