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環(huán)保APP正式上線

真空等離子清洗機(jī)

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市科偉達(dá)超聲波設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地深圳市
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時間2024/10/31 9:26:25
  • 訪問次數(shù)8
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科偉達(dá)超聲波設(shè)備有限公司是一家專業(yè)從事超聲波精密清洗設(shè)備研發(fā)、制造、營銷及服務(wù)于一體的大型企業(yè)。自上世紀(jì)90年代中期成立以來,科偉達(dá)人秉承“科技*、創(chuàng)新無限”的企業(yè)精神;本著“以人為本、精勤服務(wù)、內(nèi)聯(lián)外引、創(chuàng)造”的經(jīng)營理念;憑借*的技術(shù)開發(fā)平臺及*的制造能力;用其博大的胸懷求得與用戶、供應(yīng)商共同成長,是行業(yè)中分別被深圳市政府、上海市政府認(rèn)定的*。享有“全國消費(fèi)者質(zhì)量滿意企業(yè)”、“全國消費(fèi)者信得過企業(yè)”、“深圳品牌企業(yè)”等榮譽(yù)證書,是*通過ISO9001:2000版質(zhì)量管理體系認(rèn)證并具有中國自營進(jìn)出口權(quán)。我公司研制的具有性*科技、享有自主知識產(chǎn)權(quán)的碳?xì)浠衔锞芮逑丛O(shè)備、TFT、LCD、半導(dǎo)體精密清洗設(shè)備,品質(zhì)精良、性能*。在2003年11月經(jīng)中國洗凈工程技術(shù)合作協(xié)會專家組檢測認(rèn)定,榮獲*淘汰“ODS”替代產(chǎn)品*企業(yè)及榮獲“冼凈標(biāo)志”企業(yè)?! “殡S著網(wǎng)絡(luò)經(jīng)濟(jì)的到來,科偉達(dá)人放眼世界,與日本、美國等多個國家進(jìn)行技術(shù)交流與合作,同時積極參與*計劃開發(fā)署(UNDP)淘汰ODS的活動。2001、2002、2003年連續(xù)三年中標(biāo)*資助中國淘汰ODS計劃清洗設(shè)備的招標(biāo)項目,同時每年有100多套高品質(zhì)精密清洗設(shè)備出口到美國和日本??苽ミ_(dá)公司系列產(chǎn)品已被國內(nèi)外用戶認(rèn)可,具備了與同臺競爭的實(shí)力。為了進(jìn)一步拓展市場空間,科偉達(dá)建設(shè)了以珠江三角洲,長江三角洲、環(huán)渤海灣地區(qū)三個中國重要經(jīng)濟(jì)中心的大規(guī)模研發(fā)生產(chǎn)基地,其中深圳龍華基地占地面積15000平方米、上海閔行占地面積25000平方米、擬建大北京經(jīng)濟(jì)圈廊坊固安科偉達(dá)工業(yè)園區(qū)占地面積60000平方米。 公司現(xiàn)有員工500多名,其中外國專家3名,高級工程師15名,中級工程師80多名,車間員工95%以上中技文化,經(jīng)過多年不斷的拼搏與努力,“科偉達(dá)(KEEPAHEAD)”已逐漸成為性?! ?的企業(yè)文化,富有朝氣、激情的年輕化管理團(tuán)隊,保持*的研發(fā)、制造技術(shù),超前的環(huán)保意識為科偉達(dá)公司創(chuàng)造了廣闊的市場空間,產(chǎn)品*的出口到日本、美國、歐盟、東南亞等發(fā)達(dá)國家和地區(qū),已成為國內(nèi)外企業(yè)*的清洗設(shè)備。未來的科偉達(dá)將全面提升管理質(zhì)素,通過體制創(chuàng)新、資源整合和人才隊伍的不斷優(yōu)化,*同行業(yè)迅速占領(lǐng)工業(yè)精密清洗行業(yè)市場,逐漸將科偉達(dá)(KEEPAHEAD)建設(shè)成高科技的大型企業(yè)集團(tuán)。
全系列超聲波清洗機(jī);超聲波焊接機(jī);碳?xì)湔婵涨逑礄C(jī);機(jī)械臂;冷水機(jī)純水機(jī)系列;環(huán)保超聲波清洗;大型智能全自動清洗;干燥系統(tǒng);
我公司設(shè)計的等離子清洗機(jī)是一個大容量生產(chǎn)設(shè)備,具有多用途的機(jī)械系統(tǒng),它廣泛應(yīng)用于活化,退鍍,改性,蝕刻,提升附著力和清洗等等功能。 該設(shè)備也是,,有效性好的理想設(shè)備。該設(shè)備生產(chǎn)配選氣體:清潔的干空氣、氮?dú)狻鍤?、氧氣、二氧化碳、四氟化碳、氦氣、六氟化硫?
真空等離子清洗機(jī) 產(chǎn)品信息

主要用途:


清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。

清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。

清洗生物芯片、微流控芯片。

清洗沉積凝膠的基片。

高分子材料表面修飾。

牙科材料、人造移植物、的消毒和殺菌。

改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

適用氣體:

壓縮空氣、氬氣、氮?dú)?、氧氣、均設(shè)置有壓力表;

清洗處理時間可調(diào);

設(shè)有故障自動檢測,報警系統(tǒng);

清洗腔室采用優(yōu)質(zhì)316不銹鋼板制作,機(jī)架及外封板采用A3材質(zhì)型材制作烤漆處理;

電極板采用鋁板制作;

腔體門采用厚鋁板制作;

采用10觸摸屏操作方式,操作簡單方便(觸摸屏安裝右邊)。



外形尺寸:L1200×W1100×H1730mm

真空泵功率:1.5KW+2.2KW

內(nèi)腔尺寸:L500×W500×H600mm

總功率:5.7KW

腔內(nèi)容量:105L

工作時間:1-99min可調(diào)

托盤尺寸:L456×W405mm

電源要求:AC380V三相五線

托盤數(shù)量:8

溫控范圍:常溫-100

射頻電源功率:1KW

開門方式:手動/自動開門

匹配器功率:1KW


蝕刻:對于光致抗蝕劑聚酰亞胺的殘留和以硅化物為基本成分的涂層等材料的清除很有用;


粘附提升:往基質(zhì)上添加活化能力強(qiáng)的化學(xué)基團(tuán)以提高其粘合劑的黏著度;


清洗:清除材料上的光學(xué)物質(zhì)的污染以及清除有機(jī)物殘留,氧化和金屬鹽等對材料的污染;


活化:能使處理基材表面生成所需化學(xué)極鍵;


退鍍:使被處理基材除去金屬等材料,制作各種產(chǎn)品。


濕化學(xué)處理 - 這種處理方法是危險和不穩(wěn)定的。它通常需要昂貴的設(shè)備,以防止蒸汽污染空氣,排放廢液污染環(huán)境。即使后期處理達(dá)到環(huán)保要求,生產(chǎn)成本也很高,競爭沒有優(yōu)勢。等離子體處理是用于處理材料的方法,這里有幾個

替代傳統(tǒng)技術(shù)的等離子體處理的優(yōu)點(diǎn):


1. 環(huán)保 - 沒有有毒廢物的排放并且由于在機(jī)器操作時我們設(shè)置了一個非常低的空氣流量,因此空氣污染也降到。


2. 非危險物質(zhì) - 不用接觸有毒化學(xué)品。


3. 高效 - 提供統(tǒng)一的三維處理能力。


4. 可控 - 參數(shù)可以精確地設(shè)定為統(tǒng)一的處理。


5. 經(jīng)濟(jì) - 初始投資后加工起來是非常經(jīng)濟(jì)的。

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