| 電子工業用超純水概述 24小時：，余艷，674831270. | |||||||||
| 半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。 | |||||||||
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| 用兩級反滲透制取 電子工業超純水處理設備 | 采用兩級反滲透主機加EDI 制取電子工業超純水處理設備 | ||||||||
| 制備電子工業用超純水的工藝流程 | |||||||||
| 電子行業制備超水的工藝大致分成以下幾種： 1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 3、采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 | |||||||||
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| 三種制備電子工業用超純水的工藝比較 | |||||||||
| 目前制備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下面： | |||||||||
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| 電子工業用超純水的應用領域 | |||||||||
| 1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路； 2、超純材料和超純化學試劑； 3、實驗室和中試車間； 4、汽車、家電表面拋光處理； 5、光電產品； 6、其他高科技精微產品； | |||||||||
| 電子工業用超純水概述 | |||||||||
| 半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區分不同水質。 | |||||||||
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| 用兩級反滲透制取 電子工業超純水處理設備 | 采用兩級反滲透主機加EDI 制取電子工業超純水處理設備 | ||||||||
| 制備電子工業用超純水的工藝流程 | |||||||||
| 電子行業制備超水的工藝大致分成以下幾種： 1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統水處理方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 2、采用反滲透水處理設備與離子交換設備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→混床(復床)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 3、采用反滲透水處理設備與電去離子(EDI)設備進行搭配的的方式，這是一種制取超純水的工藝，也是一種環保，經濟，發展潛力巨大的超純水制備工藝，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設備→電去離子(EDI)→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點 | |||||||||
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| 三種制備電子工業用超純水的工藝比較 | |||||||||
| 目前制備電子工業用超純水的工藝基本上是以上三種，其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎上進行不同組合搭配衍生而來。現將他們的優缺點分別列于下面： | |||||||||
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| 電子工業用超純水的應用領域 | |||||||||
| 1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路； 24小時：，余艷，674831270. | |||||||||
