二氧化lv發生器性能及技術參數：--飲用水消毒設備質量
① 反應系統采用耐高溫、耐腐蝕的新材料；
② 采用化學法負壓曝氣工藝，結構合理、使用壽命長。
③ 電腦控制加熱、帶缺水、缺料、欠壓報警。
④ 以lv酸鈉和鹽酸為原料，產出的混合氣體中二氧化lv濃度占80%以上。
⑤ 微過濾技術讓水射器*堵塞，*避免了氣體泄露。
⑥有效lv產量（100g/h） 消耗功率（1.0kw） 壓力水≥壓力（0.20Mpa） 管徑（15 DN）
⑦原料的配比為；31%的鹽酸溶液與33%的lv酸鈉溶液按1：1比例投加。
二氧化lv發生器成本分析：
（以每噸水計）
項目/水源 | 地表水 | 地下水 | 工業冷卻水 | 醫院污水 | 游泳池水 |
二氧化lv投加量（克） | 1.0 | 0.5 | 5.0 | 35 | 3.0 |
固體lv酸鈉（克） | 1.5 | 0.75 | 7.5 | 52.5 | 4.5 |
工業鹽酸31%（克） | 4.5 | 2.25 | 22.5 | 157.5 | 13.5 |
成本合計（元） | 0.0102 | 0.0057 | 0.225 | 0.357 | 0.0306 |
注：一、固體lv酸鈉的市場價為4.4元/千克；
二、31%的鹽酸溶液市場價為0.8元/千克；
三、二氧化lv投加參考量：
1、飲用水消毒：地下水：0.3—0.5克/m3；地表水：0.8—1.0克/ m3；
2、工業循環水冷卻滅藻殺菌：5—8克/ m3；（每次投加量）；
3、醫院污水消毒：20—35克/ m3；
4、游泳池水消毒：3—5克/ m3（每次投加量）；
HE系列二氧化lv發生器的性能特點：--飲用水消毒設備質量
1、真空攪拌技術：HE系列二氧化lv發生器設備內部配備有磁力攪拌器，是目前國內*一家采用*的真空攪拌技術來生產二氧化lv消毒液的設備。設備安全穩定，反應速率快，二氧化lv收率高，運行費用低。
2、全封閉設計無泄漏：由于HB系列二氧化lv發生器采用了全封閉的設計，當設備停止運行的時候，設備內部的二氧化lv氣體就不會從設備內部溢出，不會造成泄漏污染。
3、動力水消耗量低：射流泵僅抽吸二氧化lv發生器主機產生的二氧化lv和lv氣，相較需要抽吸二氧化lv、lv氣和大量空氣的負壓曝氣工藝來講，動力水的消耗量低。
4、加熱能耗?。簝H加熱反應液，相較需要同時加熱進入反應釜內大量空氣的負壓曝氣工藝來講，加熱功耗小。
5、自動化程度高：具有自動控溫、余lv顯示、流量反饋、液位保護、欠壓報警等自動控制功能?？蓪佣喾N通訊協議，可實現遠程精確控制。
6、產品豐富：有HE系列全自動二氧化lv發生器、HJ系列半自動二氧化lv發生器和HB系列二氧化lv發生器等三個系列產品。
7、專業化的的設計團隊：可根據用戶的各種要求來設計用戶需要的系統集成。
二氧化lv發生器詳細操作說明：--
1．把本體設備管道正確連接安裝好。
2.將lv酸鈉水溶液與鹽酸溶液配置于溶液箱內，打開原水進水閥，啟動微電腦控制儀,把溫度設置在40-55度之間(溫度設置本公司在出廠前已調整好。具體詳見電器說明書，)
3.打開原水進水閥,打開二氧化lv出藥閥, 關閉鹽酸箱吸真空閥。 同時啟動lv酸鈉和鹽酸計量泵，根據出藥量調動計量泵工作頻率。
4.把微電腦控制儀設置在自動運行即可(詳見電器說明書)。
5.關機時應提前一小時關閉計量泵,停止加料,使水射器將設備中的氣體盡量抽完,以防止滯后所產生的氣體外溢,停料1小時后關閉原水進水閥。
二氧化lv發生器設備清洗
設備主機下部有排污口,可進行清洗排污,清洗時在水射器正常工作狀態下,打開反應室放空閥,關閉反應室空氣進口閥,打開反應室反沖洗閥,約半小時即可,然后關閉反應室放空閥,關閉反應室反沖洗閥,打開反應室空氣進口閥,關閉原水進水閥。
注意：正常情況下,應該每月清洗一次。
