全程綜合水處理器 工作原理

綜合水處理器首先采用高頻技術(shù)，利用高頻電場力的作用使水活化，水中的Ca2 、Mg2 離子的運(yùn)動(dòng)速度降低，與水中的CO32-、SO42-等離子有效碰撞次數(shù)減少，靜電引力下降，所以受熱壁或管表面無法結(jié)垢，從而達(dá)到防垢的目的。高頻電磁場使水的滲透力與溶解度增大，并對金屬表面的水垢薄弱環(huán)節(jié)縱向滲透到金屬表面后，開始沿金屬與水垢表面橫向滲透，使水垢呈片狀脫離金屬表面，從而達(dá)到除垢的目的。微電環(huán)境可遏制微生物的生長，破壞其生存環(huán)境，另外設(shè)備工作過程中生成的活性氧自由基，具有損傷生物大分子，改變菌類、藻類生存的生物場等作用以達(dá)到殺菌、滅藻的目的。其次利用復(fù)合過濾體系（表面過濾原理、多介質(zhì)復(fù)合層、電能磁場效應(yīng)）吸附、捕捉水中懸浮物鐵錳離子、菌藻膠體等并排出系統(tǒng)，達(dá)到超凈過濾的作用。

全程綜合水處理器 性能參數(shù)

控制腐蝕率：＜0.01毫米/年，過濾效率＞75%～98%，防垢除垢效率>95%，殺菌滅藻>92%

壓力損失： ＜0.03～0.06Mpa

工作電壓： 交流160V～240V

安全絕緣電壓： 5000V

消耗功率： ＜120W～600W

工作環(huán)境要求： 溫度-25℃～ 50℃ 相對溫度＜95%

工作溫度（被處理介質(zhì)溫度）：-25℃～ 90℃

平均*工作時(shí)間：不小于50000小時(shí)

 設(shè)備操作

為了便于設(shè)備安裝檢修，主體頂端與zui大外徑需與其他設(shè)備相距400mm以上。

禁止在無水狀態(tài)下長時(shí)間開啟設(shè)備。

設(shè)備應(yīng)為旁通式安裝，以滿足在不停機(jī)狀態(tài)下檢修設(shè)備及反沖洗濾體的需要。

排污率：新系統(tǒng)初次使用時(shí)，應(yīng)每天反沖洗1～2次。正常運(yùn)行后，當(dāng)進(jìn)出水口壓差達(dá)到0.03～0.06Mpa時(shí)進(jìn)行反沖洗。污染嚴(yán)重的系統(tǒng)，應(yīng)采用氣、水混合反吹洗。

反洗：打開主干閥，排污閥，關(guān)閉設(shè)備進(jìn)水閥，zui后切斷220V電源，進(jìn)行反向沖洗濾體。反洗時(shí)間視水質(zhì)情況而定，一般情況下為30秒左右。

復(fù)活濾體后進(jìn)出水口壓差恢復(fù)到原壓差值、開啟進(jìn)水閥、關(guān)閉主干閥、排污閥、接通220V電源，使設(shè)備正常工作。

 應(yīng)用范圍

*空調(diào)，冷水機(jī)組，制冷機(jī)；冷卻、冷凍循環(huán)水系統(tǒng)。

采用系統(tǒng)：在供暖、供熱的熱水循環(huán)系統(tǒng)。

工業(yè)、民用、冷卻水：在工業(yè)、民用、工藝?yán)鋮s循環(huán)水系統(tǒng)。

公寓、酒店：生活洗浴熱水循環(huán)系統(tǒng)，餐飲、洗衣房、游泳池等。

地?zé)崴到y(tǒng)：利用地?zé)崴M(jìn)行洗浴，采暖的循環(huán)系統(tǒng)。

 技術(shù)參數(shù)