氣相色譜配套產品/氣體純化器：Valco 氣體純化器的純化基質是一種無揮發性的吸附性合金，熔合性好，穩定性高，可以安全簡單地使用。吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成。這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。又可以進行雜氣的吸附。HP2，NP2的吸附劑材料具有良好的熱穩定性，包括兩個溫度控制范圍。

詳細介紹

氣相色譜配套產品/氣體純化器

儀器簡介

載氣的純化在靈敏度要求高的地方是一種*的手段，例如在氣相色譜中，即使有低于PPB級的不純氣體也會影響檢測器的靈敏度，損壞毛細柱。Valco生產的氦氣純化器（HP2）和氮氣純化器（NP2）可以將氦氣及其他惰性氣體中的PPM級以下的不純氣體純化，為各種需要氦氣及其他惰性氣體的系統提高純氣，如HP Atomic Emissions檢測器，Valco Pulse Discharge Helium Ionization檢測器。
Valco 氣體純化器的純化基質是一種無揮發性的吸附性合金，熔合性好，穩定性高，可以安全簡單地使用。
吸附劑粒子表面有一層氧化膜需通過加熱活化，活化過程必須在真空或惰性氣體環境下完成。這樣可允許氦氣在其間自由擴散，防止氧氣鈍化層的形成。又可以進行雜氣的吸附。HP2，NP2的吸附劑材料具有良好的熱穩定性，包括兩個溫度控制范圍。

氣相色譜配套產品/氣體純化器
儀器規格

規格	氦氣純化器貨號	氮氣純化器貨號
110VAC	HP-2	NP2
230VAC	HP2-220	NP2-220
純化芯	I-23572HP2	I-23572NP

儀器技術指標

	氦氣純化器	氮氣純化器
純化氣體	He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn	只純化N2
zui大操作壓力	1000 psig
不純氣去除	輸入氣雜質濃度在10ppm 純化輸出低于10ppb H2O, H2, O2, N2, NO, NH3, CO, CO2, CH4, 其他氣體去除包括CF4, CCl4, SiH4, H2	輸入氣雜質濃度在10ppm 純化輸出低于10ppb H2O, H2, O2, NO, NH3, CO, CO2, CH4, 其他氣體去除包括CF4, CCl4, SiH4, H2
不被去除的	He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn	He, Ar, Ne, Kr, Xe, Rn