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上海添時科學儀器有限公司
為使化學反應能在較低的溫度下進行,常利用等離子體的活性來促進反應,這種方法稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。加熱爐設備的內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層,可提高設備的加熱效率,同時也可延長設備的使用壽命。
外型尺寸:
長*寬*高 2080mm*700mm*1520mm
管爐規格:
外徑:100mm
內徑:96mm×長:1800
加熱爐主要參數:
•溫度:1200℃
•額定工作溫度:1100℃
•推薦升溫速率:≤10℃/min
•加熱區長度:L總:440mm(雙溫區包括隔環)
溫區一:200mm
溫區二:200mm
•加熱爐額定功率:3KW
•滑動方式:電動控制
•滑動行程:600mm
•電壓:單相AC 208 - 240V, 50HZ
溫控系統:
•歐陸EPC3000儀表
•模糊PID控制和自整定調節功能
•智能化24段可編程控制
•帶過電流過電壓保護漏電保護
•電氣元件及電纜,冷壓端子均符合UL認證標準
•控溫精度:±0.1℃
•控溫:K型熱電偶兩根
•通訊協議:modbus RTU
軟件控制:
•可視化運行狀態監控
•溫控系統,氣路系統,真空系統,射頻系統,滑動爐體,開合爐體,壓力控制,全自動化,
•數據記錄、過程記錄集成一體
•“預制工作流程,一鍵自動運行
•具有恒壓功能,可以設定氣體流量和恒定壓力
壓力控制:采用TRP-12(抽速3L/s)的雙旋真空泵,在總進氣量為100-150sccm,管內壓力為 100-130pa,如總進氣量高于150sccm時,請更換抽速更高的泵,測試為總進氣量為1L/min(滿足四路質量流量計全開狀態時),使用VRD-60泵(抽速18L/s),真空為120-130pa(滿足起輝條件),可在任意供氣量下設定任意氣壓值(該氣壓值需大于搭配泵體的真空值),氣壓值可自動穩定
新式快捷法蘭:
可方便快速取放物料
射頻電源:
• 500W射頻電源
•0--500W可調(穩定性±1%)
•射頻頻率:13.56MHZ
•自動匹配 風冷
•噪音<50dB
•輸入電壓:AC108-250V
供氣系統:
•四通道質子流量計控制系統可實現氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%)
•流量范圍:一路0-100 sccm
二路0-200 sccm
三路0-200 sccm
四路0-500 sccm
注:接入供氣系統的氣源需搭配減壓閥,將氣壓降至2mpa以下
真空系統:
•搭配TRP-12的雙旋真空泵(抽速3L/s)(總進氣量小于150sccm,該泵可以達到等離子發生真空度)
•搭配TRP-60雙旋真空泵(抽速10L/s)(總進氣量1L/min,該泵可以達到等離子發生真空度)
• KF25卡箍及波紋管用于連接法蘭與真空泵
•真空度可達10-2torr
備注:
注:采用氬氣高于射頻功率200w情況下,需特殊說明,設備需要特殊改造及測試;(有法蘭過熱情況)
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