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高純二氧化氯消毒裝置

是將氯酸鈉、蔗糖（及其他還原劑）按一定比例混合的混合溶液（A液）與 50% 硫酸（B液），分別按照設定的速率通過計量泵通入多級反應器中 [1]  ，在一定溫度下，經過充分反應，生成的ClO2氣體通過水射器抽出，進入水體。主要化學原理如下：

NaClO3+C12H22O11+H2SO4→ClO2+CO2+Na2SO4+H2O

根據二氧化氯發生器的原理，二氧化氯發生器由供料系統、反應系統、反應觸發系統、安全系統、吸收系統和控制系統6部分組成。 [2] 

供料系統通過計量泵將氯酸鈉、蔗糖（及其他還原劑）按一定比例混合的混合溶液（A液）與 50% 硫酸（B液）分別按照設定的速率通入到反應釜中，通過負壓曝氣將反應器中的原料充分混合均勻。

反應觸發系統控制反應的啟動，在觸發反應釜反應后，整個反應可自發進行。

整個設備通過安裝防爆塞和泄壓閥來實現雙重泄壓安全措施，泄壓閥設置微正壓泄壓和自動復位功能，雙重安全措施，增加了設備安全性。另設有缺料保護系統和水壓保護系統。控制器可接受來自硫酸、氯酸鈉貯料罐的液位信號，判斷是否缺料，如有缺料，關閉計量泵，停止加藥。當水壓低于設定值時，也將自動關閉計量泵，切斷加熱器電源。對于水壓的波動，控制器采用了延時濾波處理，有效地克服了因水壓波動而產生的發生器的頻繁停機。 [2] 

吸收系統由水射器和配套的壓力水管組成，將反應系統發生的二氧化氯從發生器中抽出，進入水體。

控制系統對供料系統、反應系統的參數和條件進行實時的監控，可選配在線流量/余ClO2氯復合環自動控制，并且具有友好的人機界面及遠程操作接口。 [2] 

隨著相關領域國家標準的提高，二氧化氯發生器為適應市場的需求，逐步開發了新型高純二氧化氯發生器。除了用蔗糖做還原劑外，還有以尿素、過氧化氫作為還原劑提供反應原料的。以過氧化氫為還原劑時，過氧化氫制備二氧化氯工藝原理如下：

2NaClO3+H2SO4+H2O2=2ClO2+2H2O+Na2SO4+O2

2NaClO3+2H2SO4+H2O2= 2ClO2+2H2O +2NaHSO4+O2

高純二氧化氯消毒裝置適用范圍：

自來水的消毒、殺菌、滅藻，工業給水及工業循環水處理，市政污水的殺菌消毒、醫院污水的氧化消毒、中水回用消毒處理。