詳細介紹
儀器特點:
1. 自動或手動模式(電流控制磁場模式)
2. 自動接觸檢查(歐姆接觸)
3. 常規和增強軟件
4. I/V曲線測試電阻率差異
5. 失調電壓補償
6. 修正慢樣品漂移電壓,特別是氧化鋅
7. 大濃度和電阻率范圍
8. 靈活的模塊化硬件
技術參數:
1 磁場: 磁場強度: 0.5T 永磁體 磁場類型: 永磁體 磁場均勻性: 磁場不均勻性<±1 % 10年內磁場變化<±0.2%
2 溫 度: 溫度區域: 77K(液氮溫度)或室溫
3 電阻率范圍: 1 μ Ohm*cm ~10 M Ohm*cm
4 電阻范圍: 0.1 m Ohms ~10 G Ohms
5 載流子濃度: 107~1021cm-3
6 遷移率: 10-2~107 cm2/volt*sec
7 輸入電流: 電流范圍: 1000 pA~10mA 電流解析度: 2.5 pA (lowest range) 電流精度: 2%
8 輸入電壓: 電壓范圍: ±10V 電壓分辨率: 1μV > 可做IV,IIIV,ⅡⅢ等材料測試 > 設計小巧,性價比* > 支持室溫&77K測試 > 使用樣品夾固定待測樣品 >
可選配永磁鐵或電磁作為磁場 1. 設備名稱: 霍爾效應測試儀 2. 功能描述: 測量半導體薄膜中載流子類型、載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數等參數
3. 霍爾效應測試儀技術參數:
3-1 測試范圍: Si, SiGe, SiC, GaAs, InGaAs, InP, GaN (N Type & P Type)等材質的半導體薄膜中載流子類型、載流子濃度、遷移率、電阻率、霍爾系數等參數
3-2 磁場:
3-2-1 磁場強度: 0.45T 永磁體
3-2-2 磁場類型: 永磁體
3-2-3 磁場均勻性: 磁場不均勻性<±1 % 10年內磁場變化<±0.2% 3-3 溫 度:
3-3-1 溫度區域: 77K(液氮溫度)或室溫
3-4 電阻率范圍: 1 μ Ohm*cm ~10 M Ohm*cm
3-5 電阻范圍: 0.1 m Ohms ~10 G Ohms
3-6 載流子濃度: 107~1021cm-3 3-7 遷移率: 10-2~107 cm2/volt*sec
3-8 輸入電流:
3-8-1 電流范圍: 1000 pA~10mA
3-8-2 電流解析度: 2.5 pA (lowest range)
3-8-3 電流精度: 2%
3-9 輸入電壓:
3-9-1 電壓范圍: ±10V 3-9-2 電壓分辨率: 1μV