全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

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產品型號Plasma 2000 全譜ICP

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更新時間：2023-08-24 14:14:03瀏覽次數：270次

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鋼研納克檢測技術股份有限公司

經營模式：生產廠家

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產品簡介

全譜ICP光譜儀-Plasma 2000

詳細介紹

鋼研納克ICP光譜儀源于鋼鐵研究總院,35年電感耦合等離子體光譜儀方法開發經驗,數十項ICP檢測標準的起草單位,ICP光譜儀產品標準GB/T 36244-2018起草單位,重大科學儀器專項《ICP痕量分析儀器的研制》牽頭單位,最懂ICP應用的國產ICP光譜儀制造商。央企品牌，上市公司，品質之選！歡迎. ：文經理電話: 手機

儀器特點：

穩健高效的全固態光源

全固態射頻發生器，體積小、效率高，全自動負載匹配，速度快、精度高，能適應各種復雜基體樣品及揮發性有機溶劑的測試，具有優異的長期穩定性。

垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，精確的位置重現。

實時監控儀器運行參數，高性能CAN工業現場總線，保障通訊高效可靠。

精密的光學系統

中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用超純SiO₂棱鏡，高光路傳輸效率，保證了深紫外區的元素測量。

優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。

光室多點充氣技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。

光室氣路獨立，可充氮氣或氬氣。

包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。