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詳細介紹
垂直模式熱膨脹儀 L75 PT VS/VD的開發是為了滿足世界各地學術界和實驗室研究的需求。該系列熱膨脹儀可以精確測定固體、液體、粉末和膠體的熱膨脹系數。由于垂直系統的“零摩擦”的設計保證了測量結果的精確，該系統的*的垂直設計非常適合低或超低膨脹系數材料。該系列熱膨脹儀能夠在真空條件下，氧化性和還原性氣氛中測量。
垂直模式熱膨脹儀 L75 PT VS/VD該系統可以用于單樣品或差示條件下測量以獲得更高的精度或樣品通量。該系列熱膨脹儀的可選機械和電子部件便于拆卸在手套箱中的測量。
新低溫爐配件：溫度可降至10K
LINSEIS L75垂直超低溫操作系統（零摩擦）。該系統提供一個寬泛的溫度范圍（-260°C ——+220°C ），多種樣品支架可選。在真空或程序控制的氧化環境或還原環境中進行測量時，仍能保證高精度和易操作性。
可以測量以下的物理性質：
熱膨脹系數，線性熱膨脹，物理熱膨脹，燒結溫度，相變，軟化點，熱分解溫度，玻璃化轉變溫度。
| 配置 | 單桿或差示熱膨脹儀 |
| 溫度范圍 | -180°C —— 500/700/1000°C |
| RT —— 1000/1400/1600/1650/2000/2400/2800°C | |
| -260°C —— +220°C (液氦) | |
| 加熱/冷卻速率* | 0.01 K/min —— 100 K/min |
| 樣品支架 | 熔融石英 <1100°C |
| Al2O3 <1750°C | |
| 石墨 2000°C | |
| 樣品長度 | zui大50 mm |
| 樣品直徑 | 7/12/20 mm |
| 可調樣品壓力 | zui大 1000 mN |
| 測量范圍 | 500/5000 µm |
| 分辨率 | 0.125 nm |
| 氣氛 | 還原、惰性、氧化、靜態/動態 |
| DTA計算 | 可選 |
| 電路板 | 集成 |
| 接口 | USB |
* 取決于爐體
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