詳細介紹
產品應用
V2科研用真空爐是用石墨作發熱元件的真空電阻爐,供金屬化合物、陶瓷、無機化合物等在真空或保護氣氛中燒結制品,也可用于金屬材料的熱處理。主要應用于電容、鉭材等金屬及由難熔金屬組成的合金材料、陶瓷材料碳化硅及氮化硅的高溫燒結、也可以供金屬材料在高真空條件下的高溫熱處理或貴金屬材料的除氣處理。
配置選項:
設備結構合理,設計及制造符合相應的國家及行業標準和規范,使用、操作、維修方便簡捷,配套產品和元器件具有*水平,可穩定、安全、可靠地滿足生產需求。
- 1、多種測溫方式( K,S,B,WRe 等熱電偶,紅外測溫儀)或組合選擇;
- 2、立式爐膛,上 / 下取料; 3、 高溫金屬(鉬、鎢)/石墨材料加熱系統選擇,方便不同溫度或材料工藝需求;
產品特點
- 均勻的加熱、可靠的隔熱及測溫: 合理的加熱結構,優良的材質,保證真空狀態下爐溫的均勻性,采用品牌測溫元件,準確測溫。
- *的自動控制及可靠的安全聯鎖: 采用計算機實現溫度、動作過程全自動控制、
PLC 實現安全聯鎖,具有超壓、超溫水溫過高等聲光報警及聯鎖工能。 - 可配置高生產效率的快冷系統: 配有內循環快速冷卻裝置,高效換熱技術多方向吹向工件,冷卻快速均勻。較之外循環快速冷卻裝置,又具有占地小,面積小,起動溫度高,真空抽速快等優點。
V2科研用真空爐技術參數
產品型號 | 加熱 | 設備 | 裝取料方式 | 工作區 | 溫度范圍( ℃ ) | 冷態極限真空度( Pa ) | 真空泵配置(選配) | 備注 |
VVSgr-10/12-2000 | 石墨 | 立式 | 上裝料 / 下裝料 | Φ100×120 | 1600/2000/2400 | 8.0×10-3/10-4 | 擴散泵 / 分子泵 | 實驗用 |