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武漢賽斯特精密儀器有限公司
槽數 | 其他 | 類型 | 其他 |
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適用領域 | 化工 | 用途 | 其他 |
PLUTO-M等離子清洗機:等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發生器,同時具備物理清洗和化學清洗能力。
等離子源采用頻率為13.56MHz射頻發生器,同時具備物理清洗和化學清洗能力。
電源功率為200W,覆蓋常規處理需求
創新設計,可調整電極之間距離,調整等離子體濃度和強度,極大提升處理效率和能力
真空腔體和管道連接件均采用316不銹鋼,電極6061鋁合金,配件材質精良,保證設備穩定高效運行
樣品處理面積可達125mm(大處理面積可達200mm,如有需求請咨詢銷售人員)
4.3寸工業級觸摸屏,操作簡單,可設置多種實驗參數
性能穩定可靠,質量穩定,自主研發,售后有保障
產品參數:
1. 真空腔規格: 316不銹鋼腔體,直徑210mm*(深)230mm 約4L
2. 電極:兩個自適應平板電極,材質T6061鋁合金
3. 電極尺寸:120*135mm 間距20~75mm 可調
4. 等離子體發生器:RF射頻發生器,頻率:13.56MHz
5. 功率:0-200W連續可調,精度1W
6. 氣體控制:針式氣體流量閥,標配1路氣體
7. 控制方式:4.3寸工業控制觸摸屏
控制軟件功能:界面顯示實時工作狀態,
可顯示設置值與實際值,便于實時控制。
可自由設置等離子功率,通入氣體時間
全手動控制和全自動控制可選
8. 保護裝置:一鍵急停保護按鈕
等離子體表面處理系統Pluto-M?參數(標準配置) | |||
外部尺寸 | 404*640*515mm |
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真空腔尺寸 | 直徑210mm*230mm | 不銹鋼腔體 | |
電極尺寸 | 125*125mm | 多空自適應平板電極 | |
等離子體發生器 | RF射頻發生器,頻率:13.56MHz | 自適應阻抗匹配電源 | |
功率 | 0-200W連續可調 | 精度1W | |
真空計 | 熱電偶真空計 0-1000mT |
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供氣 | 1路氣體 | 6mm國標連接件(軟管) | |
控制方式 | 4.3寸觸摸屏 |
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可 選 配 置 | |||
ALC | 純鋁腔體 |
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RF-300 | 等離子體發生器 | 頻率13.56MHz ,0-300W自動阻抗匹配電源 | |
可調電極 | 可調節電極間距 | 電極間距20-60mm可調,改變等離子體場濃度特性 | |
CM裝置 | 沉積鍍膜模塊 | 用于改變表面特性: 1. 沉積CF材料,樣品表面可以具有憎水的特性 2. 沉積含苯材料,樣品表面起到絕緣防水的特性 3. 沉積含有羥基的材料,提高樣品表面和其他材料的結合效果。 | |
GP裝置 | 氣體純化裝置 |
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PPU | 粉體處理裝置 | 用于處理微納米級別顆粒 | |
| 氣體收集裝置 | 用于收集等離子體化學反應后的氣體 | |
| 小型氧氣發生器 | 用于制備氧氣,可取代氧氣罐 | |
| 氣體混合裝置 | 可以根據可以要求進行混氣設計 | |
| 感應耦合模塊 | 感應耦合等離子體裝置 | |
| 加熱電極模塊 | 電極可以加熱,室溫~200度可調。 | |
| 光譜儀模塊 | 可以增加光譜儀的接口,檢測等離子體光譜變化 | |
| 電極轉換模塊 | 可以自由變換電極設計,樣品可以放在射頻電極上,也可以放在地電極上。從而實現不同的處理效果。 |
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