揚州市熱水系統專用AOT紫外光設備     紫外線系統的經濟學決定于以下因素：設備造價和壽命；電效率；運行中殺菌效果的降低程度；電費等。對于紫外線消毒系統的經濟分析尚未做出定論，有很多結論不同的分析報道，有觀點認為紫外線殺菌裝置電耗大，設備維護費和造價較高。對于大系統，設備投資比臭氧系統高，運行費用與臭氧相仿；但對于純凈水制造的小型系統投資較臭氧裝置為低。也有觀點認為對于數千噸/日以上的處理規模，紫外線消毒系統的投資和運行成本很具優勢，要比加氯和臭氧消毒的花費都低得多。例如有分析資料報道，在建造人口數為10~25000范圍的小型飲用水處理廠時，紫外線、二氧化氯和臭氧消毒費用的近似比例為1:4：（8~9），對于人口數大于500000的社會團體，費用比約為1:2.5:2.5。

揚州市熱水系統專用AOT紫外光設備    大多數紫外線裝置利用傳統的低壓紫外燈技術，也有一些大型水廠采用低壓高強度紫外燈系統和中壓高強度紫外燈系統，由于產生高強度的紫外線可能使燈管數量減少90%以上，從而縮小了占地面積，節約了安裝和維修費用，并且使紫外線消毒法對水質較差的出水也適用。

AOT水體凈化設備，集物理、化學、微生物學、機械、電子、流體力學等學科于一體，采用光催化氧化技術，利用特定光源激發納米TiO2光觸媒涂層，大大提高催化活性和使用效果，使其產生更多的具有強氧化特性的羥基自由基，將水體中的細菌、病毒、微生物、有機物等進報行分解，提高水體消毒、滅菌的效果，使處理后的水質達到國家生活飲用水、泳池水等行業用水標準。
AOT水體凈化設備由紫外線制備、納米 TiO2 涂層制備、控制器等組成。由多孔結構的TiO2納米顆粒制備的TiO2 涂層，與紫外光充分接觸，進行催化反應，導致水分子失去氫原子形成羥基自由基（OH radical），羥基自由基混合于待處理的水體中，利用反應過程中羥基自由基的強氧化性，對水體中的細菌、病毒、微生物、有機物以等進行降解，將高分子和大分子有機物反應形成小分子化合物直至生成二氧化碳和水，滅菌率達99%。
與同類設備相比，具有、方便、快捷、成本低程度高、 、副產物、安全可靠、適應性強、維護方便快捷等特點，本課題的開發成功，對推動我國水資源綜合利用的技術進步，具有十分重要的意義。

1972年Fujishima和Honda發現光電池中光照射TiO2可以發生水的氧化還原反應放出H2，1976年Carey等將半導體用于有機污染物降解，光催化的方法引起了廣泛的重視 。
早期對光催化技術的研究多集中在有機污染物的降解上，直到1985年，Matsunaga等利用UVA波段的光源在TiO2催化下進行了殺滅微生物實驗 。至此，一系列的AOT光催化滅菌的研究工作從此展開。

軟件及控制單元
主體集成具有控制程序的4.5英寸TFF彩色液晶顯示；
同時支持在線自動控制和手動立控制兩種工作模式；
自動控制模式下，可實時顯示閥門位置，具有安全防護預警功能；
內置儀器方法，使用時僅僅需要設置采樣周期與采樣次數，操作簡單；
具有二級加密調試程序，用于設備調試、內部方法設定及用戶靈活使用。

紫外線殺菌消毒是利用適當波長的紫外線能夠破壞微生物機體細胞中的DNA（脫氧核糖核酸）或RNA（核糖核酸）的分子結構，造成生長性細胞死亡和（或）再生性細胞死亡，達到殺菌消毒的效果。紫外線消毒技術是基于現代防疫學、醫學和光動力學的基礎上，利用特殊設計的率、高強度和命的UVC波段紫外光照射流水，將水中各種細菌、病毒、寄生蟲、水藻以及其他病原體直接殺死。

紫外線系統的經濟學決定于以下因素：設備造價和壽命；電效率；運行中殺菌效果的降低程度；電費等。對于紫外線消毒系統的經濟分析尚未做出定論，有很多結論不同的分析報道，有觀點認為紫外線殺菌裝置電耗大，設備維護費和造價較高。對于大系統，設備投資比臭氧系統高，運行費用與臭氧相仿；但對于純凈水制造的小型系統投資較臭氧裝置為低。也有觀點認為對于數千噸/日以上的處理規模，紫外線消毒系統的投資和運行成本很具優勢，要比加氯和臭氧消毒的花費都低得多。例如有分析資料報道，在建造人口數為10~25000范圍的小型飲用水處理廠時，紫外線、二氧化氯和臭氧消毒費用的近似比例為1:4：（8~9），對于人口數大于500000的社會團體，費用比約為1:2.5:2.5。

大多數紫外線裝置利用傳統的低壓紫外燈技術，也有一些大型水廠采用低壓高強度紫外燈系統和中壓高強度紫外燈系統，由于產生高強度的紫外線可能使燈管數量減少90%以上，從而縮小了占地面積，節約了安裝和維修費用，并且使紫外線消毒法對水質較差的出水也適用。

使用方法
2.3.5.1 對物品表面的消毒
(1)照射方式：好使用便攜式紫外線消毒器近距離移動照射，也可采取紫外燈懸吊式照射。對小件物品可放紫外線消毒箱內照射。
(2)照射劑量和時間：不同種類的微生物對紫外線的敏感性不同，用紫外線消毒時使用照射劑量達到殺滅目標微生物所需的照射劑量。
殺滅一般細菌繁殖體時，應使照射劑量達到 10000 uW.s/CM2；殺滅細菌芽胞時應達到100000 uW.s/CM2；病毒對紫外線的抵抗力介于細菌繁殖體和芽胞之間；真菌抱子的抵抗力比細菌芽胞更強，有時需要照射到以對600000 uW.s/CM2；在消毒的目標微生物不詳時，照射劑量不應低于100000 uW.s/CM2。