鼎竑GU-SP2000全自動磁控離子濺射儀

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更新時間：2023-11-10 11:44:21瀏覽次數：168次

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產品簡介

優點安全至上高壓線多重防護；外殼良好接地；真空互鎖;系統自動防護性切斷濺射；實體按鍵，很安全

詳細介紹

優點

安全至上
高壓線多重防護；外殼良好接地；真空互鎖; 系統
自動防護性切斷濺射；實體按鍵，很安全。

注重用戶體驗
5英寸液晶屏，簡潔明了;
可多設置兩個參數，即可開始工作；
系統自動調整真空度，無需人工調節針閥;
自動放氣；樣品臺高度可調節。

信息量大
濺射過程中真空度和濺射電流以曲線方式實時顯示，簡單直觀；
靶材使用時間，儀器使用時間系統自動記錄，直觀了解設備的運行狀態；

快速上手
設備內置操作向導，在操作人員更換時，無需培訓，即可快速熟練操作設備；

應用領域廣
濺射電流與壓力無關、基本沒有熱損傷，因此適用于所有樣品，尤其是溫度敏感性樣品如生物、聚合
物等樣品；工作時真空度好，鍍膜的顆粒度更小，更適用場發射等高分辨觀測電極制備。

技術參數

輸入電壓：AC220V±10%，50Hz
工作電壓：DC600V
上限功率：（主機與機械泵） 450W
可選靶材：金、鉑、銀、銅、鈦、鉛等常用金屬
真空泵：兩級直聯旋片式真空泵 1L/s
真空腔：約φ125×125mm
樣品杯：φ64×1
整機尺寸：（長×寬×高） 424×271×255（mm）
重量（主機）： 11 kg
工作環境：溫度 5～40℃，濕度<60%
存儲環境：溫度-10~60℃，濕度<80%
工作氣體：Air / Ar
保護功能：過流、真空雙保護

關鍵詞：真空泵旋片式真空泵