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北京大方科技有限責任公司
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激光脫硝氨逃逸在線分析系統一、項目概述脫硝噴氨過程需要準確監測氨逃逸濃度，該款脫硝氨逃逸監測產品是大方科技近十年氨逃逸監測的經典款，擁有上千套成功應用案例
激光脫硝氨逃逸在線分析系統
脫硝噴氨過程需要準確監測氨逃逸濃度，該款脫硝氨逃逸監測產品是大方科技近十年氨逃逸監測的經典款，擁有上千套成功應用案例。該產品采用傳統抽取式技術路線結合大方科技的多次反射技術，具有可靠性高、安裝維護方便，測量精度高等特點。
系統采用可調諧半導體激光吸收光譜（TDLAS）技術進行NH3的測量，以可調諧激光器作為光源，發射出特定波長激光束，穿過待測氣體，通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減，根據朗伯比爾定律，氣體濃度與其吸收光強成比例關系，從而實現高靈敏快速精確監測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發出待測氣體吸收的特定波長，使得測量不受測量環境中其它成分的干擾，相比其它復合光源而言，具有的測量精度。
朗伯比爾定律：
其中光譜吸收系數：
根據脫硝氨逃逸測量點高溫、高濕、高粉塵、震動等工況特點以及測量濃度低、測量精度要求高等要求，產品采用大方科技經典的抽取+多反長光程測量技術，煙氣通過采樣系統取樣后經伴熱管線進入分析單元測量分析。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道震動等對測量的影響。煙氣流經管路及樣氣室全部采用高溫加熱，保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室，測量光程可達30米，可大大提高測量精度。
四、系統特點
1 采用TDLAS技術，不受背景氣體影響
系統采用可調諧二極管激光吸收光譜技術進行氣體的測量，由于激光譜寬特別窄（小于0.0001nm），且只發射待測氣體吸收的特定波長，使測量不受測量環境中其它成分的干擾。
2 系統無漂移，避免了定期校正需要
系統采用波長調制光譜技術，并且進行動態的補償，實時鎖住氣體吸收譜線，不受溫度、壓力以及環境變化的影響，不存在漂移現象。
3 全程高溫伴熱，避免氨氣吸附損失
抽取式測量的分析方式采用全程高溫伴熱，確保無氨氣吸附損失。
4 采用多次反射樣氣室，極大地提高測量精度
系統采用多次反射測量池技術，光程可達30米，極大地提高了測量精度。
5 可靠性高，運行穩定
分析系統無任何運動部件，極大地增強了可靠性。分析儀采兩級菜單操作，人機交互界面友好，根據界面提示可不需要說明書就能掌握儀器的基本操作。自動反吹，可拆卸濾芯，維護方便，運行費用低。
6 安裝調試靈活
分析系統適合安裝在不同工業環境下，模塊化設計，安裝方便，開機預熱后便可正常運行無需進行現場光路調試。
7 技術，便于維護光學器件
大方科技*的樣氣室設計，包含維護窗口，可以在不影響光路的情況下，對污染的光學器件進行清潔，無需重新調節光路，讓維護更加快速方便。
8 儀表自檢及自恢復功能
大方科技分析儀帶有智能自檢及自恢復功能，軟件可以自動探測分析儀的測量異常狀態，可以通過自檢及自恢復，使分析儀重新恢復測量工作狀態。
9 自主知識產權
大方科技深耕TDLAS技術領域20年，針對國內應用現場監測難點進行專業和定制化開發，擁有數十項發明和軟件著作權，對產品擁有自主知識產權，產品具有高可靠性和適用性。
五、典型應用：
電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業鍋爐等企業脫硝氨逃逸監測；
煉焦企業脫硝氨逃逸監測；
化工廠脫硝氨逃逸監測；
氨法脫硫氨逃逸監測。
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