工業CT nanoVoxel 2000

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更新時間：2022-11-05 14:48:02瀏覽次數：240次

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天津徠科光學儀器有限公司

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產品簡介

工業CT nanoVoxel 2000

詳細介紹

nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT突破了傳統的光學顯微鏡、掃描電鏡、透射電鏡等表面顯微成像技術的局限性，以較高的分辨率和襯度，解密樣品內部三維結構信息。
nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT將限度的保護貴重樣品的原貌和利用率，滿足跨尺寸樣品從宏觀到微觀不同分辨率的成像需求，為業內提供了全新的高分辨率3D/4D檢測技術解決方案。

長工作距離下的微納米空間分辨率成像

nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT，不受樣品尺寸、和外部環境的影響，在距離射線源數毫米至數厘米的工作距離上仍能獲得高達500納米的真實空間分辨率。

突破性的二級光學放大

突破了傳統斷層成像（簡稱CT）技術中單純依賴大視野平板探測器一級幾何放大成像的原理，通過二級光學放大技術，實現了超越傳統斷層成像技術的無損三維亞微米級別的高分辨率、高襯度成像。

無限接近同步輻射的高吸收/相位襯度成像系統

基于*的吸收襯度成像、相位襯度成像和超分辨成像技術，使得nanoVoxel 2000系列X射線三維顯微CT通用性大大提升，應用領域從低原子序數的軟材料，如不同纖維復合材料、泡沫材料、高分子材料、動物軟組織，到高原子序數的巖石、合金、金剛石、電子器件等，均可提供高對比度、出色圖像質量的結構信息。演繹了同步輻射光源實驗室實現的相稱成像效果。

簡單的操作流程

可進行全自動樣品掃描，實驗條件簡單，無需復雜制樣，無需真空環境，降低了對設備操作人員的專業要求。

關鍵詞：光學顯微鏡

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