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深圳市吉茂科學儀器有限公司
Agilent7900ICP-MS是一款靈活的單四極桿電感耦合等離子體質譜儀,可提供非常出色的基質耐受性、有效的氦碰撞模式、超低的檢測限和寬廣的動態范圍。因此,無論樣品類型如何,您都可以確信始終報告準確的數據,即使在痕量分析中也是如此。
Agilent 7900 ICP-MS 開啟了單四極桿 ICP-MS 的新紀元
Agilent 7900 ICP-MS 是一款靈活的單四極桿電感耦合等離子體質譜儀,可提供非常出色的基質耐受性、有效的氦碰撞模式、超低的檢測限和寬廣的動態范圍。因此,無論樣品類型如何,您都可以確信始終報告準確的數據,即使在痕量分析中也是如此。
7900 ICP-MS 為要求苛刻的商業和工業應用提供了超高的性能,并具有研究和高級分析(例如形態分析)所需的靈活性。高靈敏度和瞬時信號的快速采集是單納米顆粒 (spICP-MS)、單細胞分析和激光剝蝕所必需的,讓您能夠在競爭中脫穎而出。
特性
應用
Agilent 7900 ICP-MS 可提供要求的應用所需的靈活性。針對安捷倫液相色譜系統提供全面的連接支持和集中的軟件控制,能夠實現常規以及高性能的形態分析。同時還支持其他色譜分離(例如 GC、CE 和 FFF。
HPLC-ICP-MS 高級功能包括自動切換色譜柱和流動相,能夠在一次無人值守運行序列中分析多種 HPLC-ICP-MS 方法。
在激光剝蝕 (LA) ICP-MS 成像應用中,高靈敏度是檢測極小納米顆粒 (NP) 的重要因素,也是獲得理想空間分辨率的關鍵。
7900 在整個質量數范圍內具有出色的靈敏度,結合優化的 0.1 ms 駐留時間,可實現快速時間分辨分析 (TRA) 采集。將高靈敏度與 ICP-MS 高穩定性等離子體以及寬動態范圍檢測器相結合,可輕松實現常量元素分析。
7900 可提供要求的應用所需的靈活性。利用 ORS4 碰撞/反應池有效控制干擾,并結合高效的冷等離子體,實現高純度加工化學品的超痕量分析。可選的樣品引入工具包能夠實現有機溶劑和腐蝕性樣品(例如 HF)的常規分析。
易于連接至第三方外圍設備(例如激光剝蝕 (LA-ICP-MS)),從而實現固體的直接、高靈敏度分析。
Agilent 7900 ICP-MS 開啟了單四極桿 ICP-MS 的新紀元
ICP-MS 能否兼具高性能、靈活性和易用性?答案是肯定的。
7900 ICP-MS 具有出色的基質耐受能力、高靈敏度、寬動態范圍,以及用于控制多原 子干擾的的氦氣碰撞池模式。這種高性能與一系列自動調諧、方法設置和數 據分析工具相結合,使 ICP-MS 的操作比以往更輕松。 創新技術和新版 MassHunter 軟件平臺相結合,使 Agilent 7900 成為更強大、自動化 程度更高的四極桿 ICP-MS。 7900 的基質耐受能力擴展為百分之幾十的 TDS,并具有 11 個數量級的線性動態范圍。 此外,更新后的八極桿反應池系統 (ORS) 可支持更高效的氦氣碰撞模式。無論何種應 用,Agilent 7900 ICP-MS 均可提供優異的數據質量。
硬件創新實現的性能
出色的基質耐受能力
長期以來,ICP-MS 用于總溶解態固體 (TDS) 含量低 于 0.2% 的樣品。然而,7900 ICP-MS 憑借穩定的等離子體 (CeO/Ce 比值 < 1%)可以非常輕松地耐受這種水平的 基質。
標準的超高基質進樣系統 (UHMI) 功能可幫助您對高達 25% TDS 的樣品進行常規測量,比 ICP-MS 的傳統高 100 倍,可應對多種新應用。
痕量物質檢測更勝
新型的接口設計、離子透鏡和優化的真空系統提高了離子傳 輸效率,在 CeO < 2% 的條件下,靈敏度大于 109 cps/ppm。 此外,全新的正交檢測器可降低背景、顯著提高信噪比, 從而提供更低的檢測限和更準確的超痕量分析結果。
新一代 ICPMS 系統進一步拓展的分析范圍
新型正交檢測器系統 (ODS) 提供高達 11 個數量級的動態 范圍,從亞 ppt 級到百分級濃度。這可以讓您在同一次運 行中同時測量痕量與常量元素,從而簡化方法開發并基本 消除超出檢測范圍的結果。
更快的瞬時信號分析
快速瞬時信號的測量(用于諸如毛細管色譜、單納米顆粒 和單細胞分析以及激光剝蝕類的應用)需要儀器具有極短 的積分時間。7900 ICP-MS 具有超快速數據采集功能,每 秒可完成 10000 次獨立測量。
*設計造就的實用性
Agilent 7900 ICP-MS 的每個組件經過精心設 計,造就了的性能和可靠性
基于安捷倫長期以來作為 ICP-MS *技術的,我 們對 7900 ICP-MS 進行了精益求精的重新設計。精心設計、 優化的每個組件均可滿足繁忙實驗室的需求。
進樣系統
標準的低流量、帕爾帖冷卻進樣系統提高了 運行穩定性和一致性。集成進樣系統 (ISIS 3)* 增配了活塞泵和緊密連接的 7 通閥,可實現 高速不連續進樣。
超高基質進樣系統
(UHMI) UHMI 將基質耐受性提高到 25% 的總溶解態 固體 (TDS),還可提高等離子體的穩定性, 顯著降低基質抑制效應。
等離子體與屏蔽炬系統 (STS)
精密離子能量控制確保了氦氣模式下的高靈敏度和有效的干擾去除 能力。維護儀器后,炬管將自動與接口對齊。
27 MHz 等離子體 RF 發生器
高速頻率匹配 RF 發生器增強了等離子體對各種基質的耐受能力, 即使是強揮發性的有機溶劑進樣也不會影響等離子體的穩定性。
接口與錐
標準配置的鎳錐或可選的鉑提高了離子 傳輸效率和基質耐受性。螺紋設計便于在維 護過程中拆卸。
離軸離子透鏡組
在整個質量數范圍內提高離子傳輸效率,大大減少質量歧視,無需 針對特定質量數進行電壓優化。
雙曲面四極桿
僅用于 ICP-MS 的雙曲面四極桿,具有優異的峰分離能力和豐度靈 敏度,無需定制四極桿設置即可實現相鄰峰的分離。
正交檢測器系統 (ODS)
ODS 提供了更高的靈敏度、更低的背景和 更寬的測量范圍(從 0.1 cps 至 10 Gcps,高 達 11 個數量級),消除了超范圍結果。
第四代八極桿反應池系統 (ORS4 )
配置新型氣體控制裝置的溫控型碰撞/反應 池,可在 3 秒內完成池氣體的快速切換。
八極桿離子導桿
八極桿通過氦氣碰撞模式的動能歧視 (KED) 提供了的干擾消除能力,這一特點在 數千臺已安裝的安捷倫 ICP-MS 設備中獲得 了充分驗證。
真空系統
高性能的叉分式渦輪泵與外置機械泵優化了接口區的真空,提高 了靈敏度與基質耐受性。
緊湊的臺式設計
作為安捷倫迄今為止最小的 ICP-MS 系統, 能節省寶貴的臺面空間,同時也能輕松對其 進行維修和維護
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