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北京北方大河儀器儀表有限公司


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GF100 和GF120系列金屬密封熱質量流量控制器

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品       牌

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更新時間:2023-09-24 11:53:44瀏覽次數:746次

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產品簡介

GF100/GF101/GF120/GF120XSL/GF120XSL/GF121GF100系列金屬密封熱質量流量控制器和儀表GF100系列金屬密封質量流量控制器和儀表性能:快速響應和可重現的高純度/超高純度過程氣體輸送

詳細介紹

GF100 / GF101 / GF120 / GF120XSL / GF120XSL / GF121

GF100 系列金屬密封熱質量流量控制器和儀表

GF100 系列金屬密封質量流量控制器和儀表性能:快速響應和可重現的高純度/超高純度過程氣體輸送。專為半導體、MOCVD 等其他氣體流量控制應用設計,GF100 系列在可靠性方面優于半導體行業標準水平,可確保測量結果可重現并且長時間使用后性能依然高度穩定。一臺采用標準 MultiFlo™ 技術的 MFC 即可滿足數千種氣體類型和各種量程組合的需求,無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度。

結果:提高工藝靈活性和效率輔以業內純度的過程氣體,有助于限度提高產率和生產效率。

gf100

特點

    • 長期零點穩定性,每年變動小于滿量程的 ± 0.5%
    • 穩定時間:700 ms – <1 秒
    • 滿量程流速高達 300 slpm
    • 全金屬密封流路:可選擇采用 4µ 或 10µ 英寸 Ra 表面處理的流路
    • 耐腐蝕 Hastelloy® T-Rise 傳感器可提升高溫下測量結果的可重現性
    • MultiFlo™ 氣體和量程設定功能 — 一臺設備即可滿足數千種氣體類型和各種量程組合的需求,無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度
    • 本地顯示屏
    • 可選 SDS 氣體輸送
    • DeviceNet™、RS-485 L-協議和模擬接口

優勢

      • 按照半導體行業標準對高性能組件進行七次連續測試以確保其可靠性
      • 表面積和未吹掃體積更小的全金屬耐腐蝕流路可確保流路在吹掃步驟更快干燥
      • MultiFlo™ 技術可在 60 秒內完成新過程氣體和/或量程的設定操作 – 不再需要拆除并校準 MFC
      • 高度可配置平臺可使大部分品牌的金屬密封 MFC 實現插入式更換和升級,適用范圍包括早期的 Celerity、Mykrolis、Tylan 和 UNIT 品牌產品
      • GF120 安全輸送系統 (SDS®) 是布魯克斯儀器公司低壓損質量流量控制器,適用于輸送注入和勢壘層腐蝕過程中使用的次大氣壓安全輸送系統 (SDS) 氣體
      • 便捷的用戶顯示屏和獨立的診斷/維護端口有助于設備安裝、監測和故障排除

應用

    • 半導體蝕刻工具
    • 薄膜化學氣相沉積系統(CVD、MOCVD、PECVD、ALD)
    • 物理氣相沉積 (PVD) 系統
    • 外延工藝系統

      特點

        • 長期零點穩定性,每年變動小于滿量程的 ± 0.5%
        • 穩定時間:700 ms – <1 秒
        • 滿量程流速高達 300 slpm
        • 全金屬密封流路:可選擇采用 4µ 或 10µ 英寸 Ra 表面處理的流路
        • 耐腐蝕 Hastelloy® T-Rise 傳感器可提升高溫下測量結果的可重現性
        • MultiFlo™ 氣體和量程設定功能 — 一臺設備即可滿足數千種氣體類型和各種量程組合的需求,無需從氣路上拆除 MFC 并且不影響精度
        • 本地顯示屏
        • 可選 SDS 氣體輸送
        • DeviceNet™、RS-485 L-協議和模擬接口

      優勢

          • 按照半導體行業標準對高性能組件進行七次連續測試以確保其可靠性
          • 表面積和未吹掃體積更小的全金屬耐腐蝕流路可確保流路在吹掃步驟更快干燥
          • MultiFlo™ 技術可在 60 秒內完成新過程氣體和/或量程的設定操作 – 不再需要拆除并校準 MFC
          • 高度可配置平臺可使大部分品牌的金屬密封 MFC 實現插入式更換和升級,適用范圍包括早期的 Celerity、Mykrolis、Tylan 和 UNIT 品牌產品
          • GF120 安全輸送系統 (SDS®) 是布魯克斯儀器公司低壓損質量流量控制器,適用于輸送注入和勢壘層腐蝕過程中使用的次大氣壓安全輸送系統 (SDS) 氣體
          • 便捷的用戶顯示屏和獨立的診斷/維護端口有助于設備安裝、監測和故障排除

      應用

        • 半導體蝕刻工具
        • 薄膜化學氣相沉積系統(CVD、MOCVD、PECVD、ALD)
        • 物理氣相沉積 (PVD) 系統
        • 外延工藝系統


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