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德國Sentech 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 200 RIE

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產(chǎn)品型號200 RIE

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更新時間：2023-06-16 18:22:47瀏覽次數(shù)：105次

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聯(lián)系人：林經(jīng)理

產(chǎn)品簡介

德國Sentech離子刻蝕與沉積系統(tǒng)200RIECost-effectivenessRIEplasmaetcherEtchlab200combinesparallelplateplasmasourcedesignwithdirectload.可升級性：根據(jù)其模塊化設(shè)計，Etchlab200可以升級為更大的抽油機、真空負載鎖和額外的氣體管道

詳細介紹

德國Sentech 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 200 RIE



Cost-effectiveness

RIE plasma etcher Etchlab 200 combines parallel plate plasma source design with direct load.

可升級性：根據(jù)其模塊化設(shè)計，Etchlab 200可以升級為更大的抽油機、真空負載鎖和額外的氣體管道。

成本效益：RIE等離子體蝕刻機Etchlab 200將平行板等離子體源設(shè)計與直接負載相結(jié)合。




SENTECH控制軟件：用戶友好功能強大的軟件包括模擬GUI，參數(shù)窗口，食譜編輯器，數(shù)據(jù)日志，用戶管理。

Etchlab 200 RIE 等離子體蝕刻機是一種將RIE平行板電極設(shè)計的優(yōu)點與直接負載的低成本設(shè)計相結(jié)合的直接負載等離子體蝕刻機系列。Etchlab 200具有簡單快速的樣品加載功能，從零件到200a€‰mm或300a€‰mm直徑的晶圓片直接加載到電極或載體上。Etchlab 200的設(shè)計特點是靈活性、模塊化和占用空間小。大型診斷窗口位于頂部電極和反應(yīng)器可以很容易地容納森泰克激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢圓度計端口可用于使用森泰克原位橢圓


度計端口可用于使用森泰克原位橢圓度計進行過程監(jiān)測。



Etchlab 200可配置用于處理與晶圓片直接加載兼容的材料，包括但不限于硅和硅化合物、復(fù)合半導(dǎo)體、介質(zhì)和金屬。



Etchlab 200由*的森泰克控制軟件操作，使用遠程現(xiàn)場總線技術(shù)和非常友好的通用用戶界面。



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