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單片濕法刻蝕設備,能適應HF,HCL,H3PO4等多種刻蝕液,可刻蝕金屬有Gr、Ni、Ti、Cu、Au等
單片濕法刻蝕設備,能適應HF,HCL,H3PO4等多種刻蝕液,可刻蝕金屬有Gr、Ni、Ti、Cu、Au等。本設備工作過程中由擺臂系統旋轉交替噴液,多層Cup結構可實現不同刻蝕液的分類排放與回收。專業的工藝腔體結構,在刻蝕電鍍或濺射形成的金屬膜的前提下,既能保證刻蝕的均勻性、刻蝕率,還可以保證各種化學品的使用安全性。本設備能滿足縱向刻蝕深度尺寸較大,橫向刻蝕深度精度高的工藝要求,在刻蝕工藝完成后,晶圓刻蝕溝槽和深孔等圖形側壁陡直規整,均勻性可達5%以內。 晶片尺寸
2-12寸
主要技術參數
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