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行業(yè)產(chǎn)品

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北京金盛微納科技有限公司


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標準型感應耦合等離子體刻蝕機(ICP)

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質(zhì)其他

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更新時間：2022-12-12 16:29:38瀏覽次數(shù)：465次

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聯(lián)系人：林平

產(chǎn)品簡介

詳細描述本設備具有選擇比好，刻蝕速度快、重復性好等特點，它較RIE具有更好的綜合刻蝕效果且應用范圍更廣

詳細介紹

詳細描述

本設備具有選擇比好，刻蝕速度快、重復性好等特點，它較RIE具有更好的綜合刻蝕效果且應用范圍更廣。可刻蝕的材料主要有Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機等領(lǐng)域的器件研發(fā)和制造。


產(chǎn)品主要性能指標 


型號

ICP-2B

真空系統(tǒng)

分子泵機組

刻蝕室數(shù)量

單室

刻蝕室規(guī)格

?300×280mm

電極尺寸

?200mm

刻蝕材料

Poly-Si、Si、SiO2、Si3N4、W、Mo、GaN、GaAs等。

刻蝕速率

～4 μ/min （與刻蝕材料和工藝有關(guān)）

刻蝕不均勻性

≤±5%

深硅刻蝕控制單元

可選

操作方式

手動

 

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