PLUTO-WIN是面向科研及企業(yè)研發(fā)客戶使用需求設(shè)計的高性價比ICP等離子體系統(tǒng)。作為一個多功能系統(tǒng)，它通過優(yōu)化的系統(tǒng)設(shè)計與靈活的配置方案，獲得高性能ICP刻蝕工藝。該設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊占地面積小，專業(yè)的機械設(shè)計與優(yōu)化的自動化操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全，且工藝穩(wěn)定重復(fù)性很好。

詳細介紹

產(chǎn)品特點

● 4/6/8英寸兼容，單片晶圓真空傳輸系統(tǒng)

● 低成本高可靠，適合研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)

● 設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，外形小

● 操作簡便、便于自動控制、適合大面積基片刻蝕

● 優(yōu)異的刻蝕均勻性，刻蝕速率快

●滿足半導(dǎo)體標準的配方驅(qū)動及管理軟件控制系統(tǒng)

● 選擇比高、各向異性高、刻蝕損傷小

● 斷面輪廓可控性高，刻蝕表面平整光滑

技術(shù)參數(shù)

晶圓尺寸：4/6/8英寸兼容

適用工藝：等離子體刻蝕

適用材料：SiC、Si、GaN、GaAs、InP、Ploy，etc.

應(yīng)用領(lǐng)域

適用領(lǐng)域：化合物半導(dǎo)體，MEMS、功率器件、科研等領(lǐng)域

應(yīng)用.png

其他推薦產(chǎn)品更多>>

薦

ICP干法等離子刻蝕機
面議
查看詳情我要詢價

以上信息由企業(yè)自行提供，信息內(nèi)容的真實性、準確性和合法性由相關(guān)企業(yè)負責，環(huán)保在線對此不承擔任何保證責任。溫馨提示：為規(guī)避購買風險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。

會員登錄

請輸入賬號

請輸入密碼

請輸驗證碼

收藏該商鋪

請登錄后再收藏

提示

您的留言已提交成功！我們將在第一時間回復(fù)您~



立即詢價 您留言后，廠商將第一時間為您服務(wù)！

*留言

標題：: 請輸入你感興趣的產(chǎn)品

需求：: 請簡單描述您的需求限200字

請簡單描述您的需求

*聯(lián)系人

*電話

單位

微信

同手機號

郵箱

省份

請選擇省份

請選擇省份
安徽
北京
福建
甘肅
廣東
廣西
貴州
海南
河北
河南
黑龍江
湖北
湖南
吉林
江蘇
江西
遼寧
內(nèi)蒙古
寧夏
青海
山東
山西
陜西
上海
四川
天津
新疆
西藏
云南
浙江
重慶
香港
澳門
臺灣
國外

*驗證碼

請輸入計算結(jié)果（填寫阿拉伯數(shù)字），如：三加四=7

獲取其他優(yōu)質(zhì)廠商精準報價

提交后，默認您同意《服務(wù)條款》和《隱私協(xié)議》

好評
中評
差評

匿名

提交

客戶評價列表

評價時間	類別	詳細內(nèi)容	評價者	IP地址

總共條本頁條