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湖南艾科威半導體裝備有限公司


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離子束刻蝕機

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更新時間：2022-12-22 16:05:12瀏覽次數：524次

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產品簡介

離子束刻蝕又稱為離子銑，利用離子源引出的離子束，直接轟擊工件，將工件上未被掩膜遮蔽的部分材料濺射出來，實現選擇刻蝕的目的。

詳細介紹

設備特點
●工件臺：圓周旋轉或者掃描運動，刻蝕角度可調，刻蝕均勻性高，兼容刻蝕和拋光功能 
●工件臺采用水冷，確保晶片低溫刻蝕 
●可配置等離子體中和槍，確保晶片表面無電荷積累 
●可配置法拉第測束裝置，確保工藝參數的可重復 
●真空系統分子泵/低溫泵可選
 
技術指標
●工件臺 
　　　　適用晶片尺寸：4"～8"，兼容不規則方片
　　　　圓周旋轉/往復掃描運動
●離子源：考夫曼離子源 
　　　　　離子束能量：0eV～1000eV連續可調 
　　　　　束流 ：200mA （圓形）或300mA （條形）
●刻蝕均勻性 ：片內±5%，片間±3%
 
應用范圍
　　用于在基板表面拋光或材料的去除，尤其適用于金屬材料薄膜的刻蝕，如Cu、Au、Pt、Ti、Ni、NiCr等

關鍵詞：低溫泵
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