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重慶重光實業有限公司
詳細描述:儀器適用范圍:伴隨著半導體工業的發展,我國半導體圓晶生產已從較小的尺寸發展到現在的8英寸(200mm),MA3000就是為了適應大芯片檢測而開發的新產品
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儀器適用范圍: 伴隨著半導體工業的發展,我國半導體圓晶生產已從較小的尺寸發展到現在的8英寸(200mm),MA3000就是為了適應大芯片檢測而開發的新產品。MA3000配備反射照明光學系統,反射式暗場和偏光系統,使它可用在相同尺寸的半導體掩模板,液晶基板或其它平面顯示器及各種工業器件的檢驗場合。 儀器特性:
高質量的光學系統,確保儀器在對各試樣檢驗時均能獲得良好的成像質量。 無限遠校正像差長距平場消色差物鏡 MA3000配用了本公司開發的視場數 22mm無限遠校正像差超長工作距離平場消色差系列物鏡。對各種被檢測的試樣均能獲得優良的成像質量。物鏡的超長工作距離,可避免物鏡與試樣相碰而損傷試樣或物鏡 在反射照明光路中,明場、暗場和偏光可快速轉換 MA3000配有明場和暗場共用的物鏡,只要拉動拉桿,即可明場暗場轉換;只需插入或拉出起偏器和檢偏器,即可偏光轉換,操作十分方便。 采用完善的柯拉照明系統 MA3000采用完善的柯拉照明系統,在整個視場內照明均勻。 |
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